ನಮ್ಮ ಮುಖ್ಯ ಉತ್ಪನ್ನಗಳು: ಅಮೈನೊ ಸಿಲಿಕೋನ್, ಬ್ಲಾಕ್ ಸಿಲಿಕೋನ್, ಹೈಡ್ರೋಫಿಲಿಕ್ ಸಿಲಿಕೋನ್, ಅವುಗಳ ಎಲ್ಲಾ ಸಿಲಿಕೋನ್ ಎಮಲ್ಷನ್, ತೇವಗೊಳಿಸುವ ಉಜ್ಜುವಿಕೆಯ ವೇಗ ಸುಧಾರಣೆ, ನೀರು ನಿವಾರಕ (ಫ್ಲೋರಿನ್ ಮುಕ್ತ, ಕಾರ್ಬನ್ 6, ಕಾರ್ಬನ್ 8), ಡೆಮಿನ್ ತೊಳೆಯುವ ರಾಸಾಯನಿಕಗಳು (ABS, ಕಿಣ್ವ, ಸ್ಪ್ಯಾಂಡೆಕ್ಸ್ ರಕ್ಷಕ, ಮ್ಯಾಂಗನೀಸ್ ಹೋಗಲಾಡಿಸುವವನು), ಮುಖ್ಯ ರಫ್ತು ದೇಶಗಳು: ಭಾರತ, ಪಾಕಿಸ್ತಾನ, ಬಾಂಗ್ಲಾದೇಶ, ಟರ್ಕಿ, ಇಂಡೋನೇಷ್ಯಾ, ಉಜ್ಬೇಕಿಸ್ತಾನ್, ಇತ್ಯಾದಿ.

 

ರಾಸಾಯನಿಕ ಉತ್ಪಾದನೆಯ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಲ್ಲಿ, ವಿವಿಧ ಕಾರಣಗಳಿಂದಾಗಿ, ಪಾಲಿಮರ್‌ಗಳು, ಕೋಕಿಂಗ್, ಎಣ್ಣೆ ಮತ್ತು ಧೂಳು, ಮಾಪಕ, ಕೆಸರು ಮತ್ತು ನಾಶಕಾರಿ ಉತ್ಪನ್ನಗಳಂತಹ ಧೂಳು ಮತ್ತು ಕೊಳಕು ಉಪಕರಣಗಳು ಮತ್ತು ಪೈಪ್‌ಲೈನ್‌ಗಳಲ್ಲಿ ಸಂಭವಿಸಬಹುದು. ಇವು ಉಪಕರಣಗಳ ಬಳಕೆಯ ಮೇಲೆ ಗಂಭೀರವಾಗಿ ಪರಿಣಾಮ ಬೀರುತ್ತವೆ, ಆದ್ದರಿಂದ ರಾಸಾಯನಿಕ ಉಪಕರಣಗಳನ್ನು ಸ್ವಚ್ಛಗೊಳಿಸುವುದು ಬಹಳ ಮುಖ್ಯ.

ರಾಸಾಯನಿಕ ಉಪಕರಣಗಳ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆಯು ಎರಡು ವಿಧಗಳನ್ನು ಒಳಗೊಂಡಿದೆ: ಆನ್‌ಲೈನ್ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆ ಮತ್ತು ಆಫ್‌ಲೈನ್ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆ.

 

ಆನ್‌ಲೈನ್ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆ

ನೈಸರ್ಗಿಕ ಪರಿಚಲನೆಗಾಗಿ ವ್ಯವಸ್ಥೆಗೆ ರಾಸಾಯನಿಕಗಳನ್ನು ಸೇರಿಸಲು ಪರಿಚಲನಾ ನೀರಿನ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯಲ್ಲಿರುವ ತಂಪಾಗಿಸುವ ಗೋಪುರವನ್ನು ಡೋಸಿಂಗ್ ಬಾಕ್ಸ್ ಆಗಿ ಬಳಸಿ.

ಅನುಕೂಲಗಳು: ಉಪಕರಣವನ್ನು ಸ್ಥಗಿತಗೊಳಿಸುವ ಅಗತ್ಯವಿಲ್ಲ ಮತ್ತು ಸಾಮಾನ್ಯ ಉತ್ಪಾದನೆ ಮತ್ತು ಬಳಕೆಯ ಮೇಲೆ ಪರಿಣಾಮ ಬೀರುವುದಿಲ್ಲ.

ಅನಾನುಕೂಲತೆ: ಆಫ್‌ಲೈನ್ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆಗೆ ಹೋಲಿಸಿದರೆ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವ ಪರಿಣಾಮವು ಉತ್ತಮವಾಗಿಲ್ಲ. ದೀರ್ಘ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವ ಸಮಯ ಮತ್ತು ಉಪಕರಣಗಳಿಗೆ ಗಮನಾರ್ಹವಾದ ತುಕ್ಕು ಅಪಾಯಗಳು.

 

ಆಫ್-ಲೈನ್ ತೊಳೆಯುವಿಕೆ

ಇದು ಉಪಕರಣಗಳು ಅಥವಾ ಪೈಪ್‌ಲೈನ್‌ಗಳಿಂದ ಸ್ವಚ್ಛಗೊಳಿಸಬೇಕಾದ ಘಟಕಗಳನ್ನು ಡಿಸ್ಅಸೆಂಬಲ್ ಮಾಡುವ ಮತ್ತು ಸ್ವಚ್ಛಗೊಳಿಸಲು ಅವುಗಳನ್ನು ಬೇರೆ ಸ್ಥಳಕ್ಕೆ (ಘಟಕಗಳ ಮೂಲ ಸ್ಥಳಕ್ಕೆ ಸಂಬಂಧಿಸಿದಂತೆ) ಸಾಗಿಸುವ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯನ್ನು ಸೂಚಿಸುತ್ತದೆ.

ಆಫ್‌ಲೈನ್ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆಯನ್ನು ಭೌತಿಕ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆ ಮತ್ತು ರಾಸಾಯನಿಕ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆ ಎಂದು ವಿಂಗಡಿಸಬಹುದು.

ಭೌತಿಕ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆ: ಉಪಕರಣಗಳನ್ನು ಸ್ವಚ್ಛಗೊಳಿಸಲು ಹೆಚ್ಚಿನ ಒತ್ತಡದ ಹರಿಯುವ ನೀರನ್ನು ಬಳಸಿ. ಹೆಚ್ಚಿನ ಒತ್ತಡದ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವ ಉಪಕರಣಗಳು ಅಗತ್ಯವಿದೆ.

ರಾಸಾಯನಿಕ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆ: ಶಾಖ ವಿನಿಮಯಕಾರಕವನ್ನು ಪ್ರತ್ಯೇಕವಾಗಿ ಹೊರತೆಗೆದು, ಪರಿಚಲನೆಗೊಳ್ಳುವ ನೀರಿನ ಒಳಹರಿವು ಮತ್ತು ಹೊರಹರಿವಿನ ಪೈಪ್‌ಲೈನ್‌ಗಳನ್ನು ಪರಿಚಲನೆಗಾಗಿ ಸ್ವಚ್ಛಗೊಳಿಸುವ ವಾಹನಕ್ಕೆ ಸಂಪರ್ಕಪಡಿಸಿ. ರಾಸಾಯನಿಕ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆಯು ಈ ಕೆಳಗಿನ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ:

ಪ್ರಯೋಜನಗಳು: ಔಷಧಿಯ ಕಡಿಮೆ ಡೋಸೇಜ್ ಮತ್ತು ಉತ್ತಮ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವ ಪರಿಣಾಮ.

ಅನಾನುಕೂಲಗಳು: ಕಾರುಗಳು ಅಥವಾ ನೀರಿನ ಟ್ಯಾಂಕ್‌ಗಳನ್ನು ಸ್ವಚ್ಛಗೊಳಿಸುವುದು, ಅಧಿಕ ಒತ್ತಡದ ಪಂಪ್‌ಗಳು, ಸಂಪರ್ಕಿಸುವ ಕವಾಟಗಳ ವಿವಿಧ ವಿಶೇಷಣಗಳು, ವೆಲ್ಡಿಂಗ್ ಉಪಕರಣಗಳು ಇತ್ಯಾದಿಗಳಂತಹ ಅನುಗುಣವಾದ ಉಪಕರಣಗಳು ಅಗತ್ಯವಿದೆ.

 

ರಾಸಾಯನಿಕ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆಯಲ್ಲಿ ಎರಡು ವಿಧಗಳಿವೆ: ಆಮ್ಲ ತೊಳೆಯುವುದು ಮತ್ತು ಕ್ಷಾರ ತೊಳೆಯುವುದು.

ಕ್ಷಾರ ತೊಳೆಯುವುದು: ಮುಖ್ಯವಾಗಿ ಉಪಕರಣದೊಳಗಿನ ಸಾವಯವ ವಸ್ತುಗಳು, ಸೂಕ್ಷ್ಮಜೀವಿಗಳು, ಎಣ್ಣೆ ಕಲೆಗಳು ಮತ್ತು ಇತರ ಲಗತ್ತುಗಳನ್ನು ತೆಗೆದುಹಾಕಲು ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ, ಉದಾಹರಣೆಗೆ ಉಪಕರಣಗಳ ಸ್ಥಾಪನೆಯ ಸಮಯದಲ್ಲಿ ಬಳಸುವ ತುಕ್ಕು ನಿರೋಧಕಗಳು. ಕ್ಷಾರೀಯ ತೊಳೆಯುವಿಕೆಯು ಅಜೈವಿಕ ಲವಣಗಳನ್ನು ಸಡಿಲಗೊಳಿಸುವುದು, ಸಡಿಲಗೊಳಿಸುವುದು, ಎಮಲ್ಸಿಫೈ ಮಾಡುವುದು ಮತ್ತು ಚದುರಿಸುವಲ್ಲಿಯೂ ಪಾತ್ರವಹಿಸುತ್ತದೆ. ಸಾಮಾನ್ಯ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವ ಏಜೆಂಟ್‌ಗಳಲ್ಲಿ ಸೋಡಿಯಂ ಹೈಡ್ರಾಕ್ಸೈಡ್, ಸೋಡಿಯಂ ಕಾರ್ಬೋನೇಟ್, ಟ್ರೈಸೋಡಿಯಂ ಫಾಸ್ಫೇಟ್, ಇತ್ಯಾದಿ ಸೇರಿವೆ.

ಆಮ್ಲ ತೊಳೆಯುವುದು: ಮುಖ್ಯವಾಗಿ ಕಾರ್ಬೋನೇಟ್‌ಗಳು, ಸಲ್ಫೇಟ್‌ಗಳು, ಸಿಲಿಕಾ ಮಾಪಕಗಳು ಮುಂತಾದ ಅಜೈವಿಕ ಲವಣಗಳ ಶೇಖರಣೆಯನ್ನು ತೆಗೆದುಹಾಕಲು. ಸಾಮಾನ್ಯ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವ ಏಜೆಂಟ್‌ಗಳಲ್ಲಿ ಹೈಡ್ರೋಕ್ಲೋರಿಕ್ ಆಮ್ಲ, ಸಲ್ಫ್ಯೂರಿಕ್ ಆಮ್ಲ ಮತ್ತು ಹೈಡ್ರೋಫ್ಲೋರಿಕ್ ಆಮ್ಲದಂತಹ ಸಾವಯವ ಆಮ್ಲಗಳು ಸೇರಿವೆ. ಸಿಟ್ರಿಕ್ ಆಮ್ಲ ಮತ್ತು ಅಮೈನೋ ಸಲ್ಫೋನಿಕ್ ಆಮ್ಲದಂತಹ ಸಾವಯವ ಆಮ್ಲಗಳು.

 

ರಾಸಾಯನಿಕ ಉಪಕರಣಗಳನ್ನು ಏಕೆ ಸ್ವಚ್ಛಗೊಳಿಸಬೇಕು?
1. ಚಾಲನೆ ಮಾಡುವ ಮೊದಲು ಸ್ವಚ್ಛಗೊಳಿಸುವ ಅವಶ್ಯಕತೆ

ಉತ್ಪಾದನಾ ದಕ್ಷತೆಯನ್ನು ಸುಧಾರಿಸಲು ಮತ್ತು ಉತ್ಪಾದನೆಯ ಮೇಲೆ ಕೊಳೆಯ ಪ್ರಭಾವವನ್ನು ತಪ್ಪಿಸಲು ಚಾಲನೆ ಮಾಡುವ ಮೊದಲು ರಾಸಾಯನಿಕ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವುದು ಅತ್ಯಗತ್ಯ. ಆದ್ದರಿಂದ, ಹೊಸ ರಾಸಾಯನಿಕ ಉಪಕರಣಗಳನ್ನು ಕಾರ್ಯಾಚರಣೆಗೆ ಒಳಪಡಿಸುವ ಮೊದಲು, ಅದನ್ನು ಪ್ರಾರಂಭಿಸುವ ಮೊದಲು ಸ್ವಚ್ಛಗೊಳಿಸಬೇಕು.

ರಾಸಾಯನಿಕ ಉತ್ಪಾದನಾ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯು ಬಹು ರಾಸಾಯನಿಕ ಕಚ್ಚಾ ವಸ್ತುಗಳನ್ನು ಒಳಗೊಂಡಿರುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ವೇಗವರ್ಧಕಗಳ ಬಳಕೆಯ ಅಗತ್ಯವಿರುತ್ತದೆ. ಕೆಲವು ಕಚ್ಚಾ ವಸ್ತುಗಳು ಮತ್ತು ವೇಗವರ್ಧಕಗಳಿಗೆ ಶುದ್ಧತೆಯ ಅವಶ್ಯಕತೆಗಳು ತುಂಬಾ ಹೆಚ್ಚಿರುತ್ತವೆ, ಆದ್ದರಿಂದ ಉತ್ಪಾದನಾ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಲ್ಲಿ ಉಪಕರಣಗಳು ಮತ್ತು ಪೈಪ್‌ಲೈನ್‌ಗಳ ಶುಚಿತ್ವಕ್ಕೆ ಹೆಚ್ಚಿನ ಅವಶ್ಯಕತೆಗಳಿವೆ. ಯಾವುದೇ ಕಲ್ಮಶಗಳು ವೇಗವರ್ಧಕ ವಿಷ, ಅಡ್ಡ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಗಳಿಗೆ ಕಾರಣವಾಗಬಹುದು ಮತ್ತು ಸಂಪೂರ್ಣ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯನ್ನು ಹಾನಿಗೊಳಿಸಬಹುದು. ಇದರ ಜೊತೆಗೆ, ಸಾಧನದಲ್ಲಿನ ಕೆಲವು ಉಪಕರಣಗಳು ಮತ್ತು ಪರಿಕರಗಳು ಹೆಚ್ಚಿನ ನಿಖರತೆಯ ಅವಶ್ಯಕತೆಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿರುತ್ತವೆ ಅಥವಾ ಕಲ್ಮಶಗಳ ವಿನಾಶಕಾರಿ ಪರಿಣಾಮಗಳಿಗೆ ಹೆಚ್ಚು ಸೂಕ್ಷ್ಮವಾಗಿರುತ್ತವೆ. ಆದ್ದರಿಂದ, ಯಾಂತ್ರಿಕ ಕಲ್ಮಶಗಳ ಯಾವುದೇ ಹಸ್ತಕ್ಷೇಪವು ನಿಖರ ಘಟಕಗಳ ಗುಣಮಟ್ಟವನ್ನು ಹಾನಿಗೊಳಿಸುವ ಮತ್ತು ಸಾಮಾನ್ಯ ಉತ್ಪಾದನೆಯ ಮೇಲೆ ಪರಿಣಾಮ ಬೀರುವ ಸಾಧ್ಯತೆಯಿದೆ.

2. ಕೆಲಸ ಪ್ರಾರಂಭಿಸಿದ ನಂತರ ಸ್ವಚ್ಛಗೊಳಿಸುವ ಅವಶ್ಯಕತೆ

ರಾಸಾಯನಿಕ ಉಪಕರಣಗಳನ್ನು ದೀರ್ಘಕಾಲದವರೆಗೆ ಬಳಸಿದಾಗ, ಪಾಲಿಮರ್‌ಗಳು, ಕೋಕಿಂಗ್, ಎಣ್ಣೆ ಮತ್ತು ಕೊಳಕು, ನೀರಿನ ಮಾಪಕ, ಕೆಸರು ಮತ್ತು ನಾಶಕಾರಿ ಉತ್ಪನ್ನಗಳಂತಹ ಧೂಳನ್ನು ಉತ್ಪಾದಿಸಬಹುದು, ಇದು ರಾಸಾಯನಿಕ ಉಪಕರಣಗಳ ಕಾರ್ಯಾಚರಣೆಯ ಮೇಲೆ ಗಂಭೀರವಾಗಿ ಪರಿಣಾಮ ಬೀರುತ್ತದೆ.ರಾಸಾಯನಿಕ ಉಪಕರಣಗಳನ್ನು ಸಕಾಲಿಕವಾಗಿ ಸ್ವಚ್ಛಗೊಳಿಸುವುದರಿಂದ ಅದರ ಸೇವಾ ಜೀವನವನ್ನು ವಿಸ್ತರಿಸಬಹುದು, ದಕ್ಷತೆಯನ್ನು ಸುಧಾರಿಸಬಹುದು, ಸುರಕ್ಷತೆಯನ್ನು ಖಚಿತಪಡಿಸಿಕೊಳ್ಳಬಹುದು ಮತ್ತು ಆರ್ಥಿಕ ನಷ್ಟವನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡಬಹುದು.

ಆದ್ದರಿಂದ, ಚಾಲನೆ ಮಾಡುವ ಮೊದಲು ಅಥವಾ ಸ್ವಲ್ಪ ಸಮಯದವರೆಗೆ ಬಳಸಿದ ನಂತರ, ಉಪಕರಣಗಳನ್ನು ಸ್ವಚ್ಛಗೊಳಿಸಬೇಕು, ಇದು ಅತ್ಯಗತ್ಯ ದೈನಂದಿನ ನಿರ್ವಹಣಾ ಕೆಲಸವಾಗಿದೆ.

 

ರಾಸಾಯನಿಕ ಉಪಕರಣಗಳ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಗಳು ಯಾವುವು?

ಉಪಕರಣಗಳನ್ನು ಸ್ವಚ್ಛಗೊಳಿಸುವ ಮೊದಲು ತಯಾರಿ

ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವ ಮೊದಲು, ಉಪಕರಣ ಅಥವಾ ಸಾಧನದಲ್ಲಿನ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವ ದ್ರಾವಣದಿಂದ ತುಕ್ಕು ಮತ್ತು ಹಾನಿಗೆ ಒಳಗಾಗುವ ಘಟಕಗಳು, ಉದಾಹರಣೆಗೆ ಕವಾಟಗಳು ಮತ್ತು ಹರಿವಿನ ಮೀಟರ್‌ಗಳನ್ನು ನಿಯಂತ್ರಿಸುವುದು, ತೆಗೆದುಹಾಕಬೇಕು ಮತ್ತು ಫಿಲ್ಟರ್ ಕೋರ್ (ಮೆಶ್) ಮತ್ತು ಒನ್-ವೇ ವಾಲ್ವ್ ಕೋರ್ ಅನ್ನು ತೆಗೆದುಹಾಕಬೇಕು. ಮತ್ತು ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಲ್ಲಿ ಇತರ ಘಟಕಗಳಿಗೆ ಯಾವುದೇ ಸೋರಿಕೆ ಅಥವಾ ಹಾನಿಯಾಗದಂತೆ ನೋಡಿಕೊಳ್ಳಲು ಮತ್ತು ಸ್ವಚ್ಛಗೊಳಿಸಿದ ಉಪಕರಣಗಳನ್ನು ಸ್ವಚ್ಛಗೊಳಿಸದ ಉಪಕರಣಗಳು ಮತ್ತು ಪೈಪ್‌ಲೈನ್‌ಗಳಿಂದ ಬೇರ್ಪಡಿಸಲು ತಾತ್ಕಾಲಿಕ ಶಾರ್ಟ್ ಪೈಪ್‌ಗಳು, ಬೈಪಾಸ್‌ಗಳು ಅಥವಾ ಬ್ಲೈಂಡ್ ಪ್ಲೇಟ್‌ಗಳನ್ನು ಸೇರಿಸುವಂತಹ ಕ್ರಮಗಳನ್ನು ತೆಗೆದುಕೊಳ್ಳಬೇಕು.

 

ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವ ವಿಧಾನಗಳು ಮತ್ತು ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ಪರಿಸ್ಥಿತಿಗಳು

1. ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವ ವಿಧಾನ

ಸಲಕರಣೆಗಳ ನಿರ್ದಿಷ್ಟ ಪರಿಸ್ಥಿತಿಗೆ ಅನುಗುಣವಾಗಿ, ಸೋಕಿಂಗ್ ಸೈಕಲ್ ಕ್ಲೀನಿಂಗ್ ಅಥವಾ ಸ್ಪ್ರೇ ಕ್ಲೀನಿಂಗ್ ಅನ್ನು ಬಳಸಬಹುದು.

ಸೋಕಿಂಗ್ ಸೈಕಲ್ ಕ್ಲೀನಿಂಗ್ ಬಳಸುವಾಗ, ಕಡಿಮೆ ಬಿಂದುವಿನ ಒಳಹರಿವು ಹೆಚ್ಚಿರುವ, ಅಮೋನಿಯಾ ರಿಟರ್ನ್ ಸೈಕಲ್ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯನ್ನು ಅಳವಡಿಸಿಕೊಳ್ಳಬಹುದು.

ಸ್ಪ್ರೇ ಕ್ಲೀನಿಂಗ್ ಬಳಸುವಾಗ, ಹೈ ಪಾಯಿಂಟ್ ಲಿಕ್ವಿಡ್ ಇನ್ಲೆಟ್ ಮತ್ತು ಲೋ ಪಾಯಿಂಟ್ ರಿಫ್ಲಕ್ಸ್ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯನ್ನು ಅಳವಡಿಸಿಕೊಳ್ಳಬಹುದು.

2. ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವ ವಿಧಾನ ಮತ್ತು ರಾಸಾಯನಿಕ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆಯ ಮಟ್ಟವು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯ ನೀರಿನ ಒತ್ತಡ ಸೋರಿಕೆ ಪತ್ತೆ (ನೀರಿನ ತೊಳೆಯುವಿಕೆ), ಡಿಗ್ರೀಸಿಂಗ್, ನೀರಿನ ತೊಳೆಯುವಿಕೆ, ಆಮ್ಲ ತೊಳೆಯುವುದು, ತೊಳೆಯುವುದು, ತಟಸ್ಥಗೊಳಿಸುವಿಕೆ, ನಿಷ್ಕ್ರಿಯಗೊಳಿಸುವಿಕೆ, ತಪಾಸಣೆ ಮತ್ತು ಹಸ್ತಚಾಲಿತ ಚಿಕಿತ್ಸೆಯನ್ನು ಒಳಗೊಂಡಿರುತ್ತದೆ.

ಕೆಳಗಿನವು ಪ್ರತಿಯೊಂದು ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಗೆ ವಿವರಣೆಯನ್ನು ಒದಗಿಸುತ್ತದೆ.

ನೀರಿನ ಒತ್ತಡದ ಸೋರಿಕೆ ಪತ್ತೆ (ವಾಟರ್ ಫ್ಲಶಿಂಗ್) ಉದ್ದೇಶವು ತಾತ್ಕಾಲಿಕ ವ್ಯವಸ್ಥೆಗಳ ಸೋರಿಕೆ ಪರಿಸ್ಥಿತಿಯನ್ನು ಪರಿಶೀಲಿಸುವುದು ಮತ್ತು ಧೂಳು, ಕೆಸರು, ಬೇರ್ಪಟ್ಟ ಲೋಹದ ಆಕ್ಸೈಡ್‌ಗಳು, ವೆಲ್ಡಿಂಗ್ ಸ್ಲ್ಯಾಗ್ ಮತ್ತು ವ್ಯವಸ್ಥೆಯಿಂದ ಇತರ ಸಡಿಲ ಮತ್ತು ಸುಲಭವಾಗಿ ತೆಗೆಯಬಹುದಾದ ಕೊಳೆಯನ್ನು ತೆಗೆದುಹಾಕುವುದು.

ಡಿಗ್ರೀಸಿಂಗ್ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆಯ ಉದ್ದೇಶವೆಂದರೆ ಯಾಂತ್ರಿಕ ತೈಲ, ಗ್ರ್ಯಾಫೈಟ್ ಗ್ರೀಸ್, ಎಣ್ಣೆ ಲೇಪನಗಳು ಮತ್ತು ತುಕ್ಕು ಎಣ್ಣೆಯಂತಹ ಎಣ್ಣೆ ಕಲೆಗಳನ್ನು ವ್ಯವಸ್ಥೆಯಿಂದ ತೆಗೆದುಹಾಕುವುದು ಮತ್ತು ಆಮ್ಲ ತೊಳೆಯುವಿಕೆಯನ್ನು ಏಕರೂಪವಾಗಿ ಖಚಿತಪಡಿಸಿಕೊಳ್ಳುವುದು.

ಡಿಗ್ರೀಸಿಂಗ್ ನಂತರ ನೀರಿನಿಂದ ತೊಳೆಯುವ ಉದ್ದೇಶವು ವ್ಯವಸ್ಥೆಯಿಂದ ಉಳಿದಿರುವ ಕ್ಷಾರೀಯ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವ ಏಜೆಂಟ್‌ಗಳನ್ನು ತೆಗೆದುಹಾಕುವುದು ಮತ್ತು ಮೇಲ್ಮೈಯಿಂದ ಕೆಲವು ಕಲ್ಮಶಗಳನ್ನು ತೆಗೆದುಹಾಕುವುದು. ವಸ್ತುವನ್ನು ತೆಗೆದುಹಾಕಿ.

ಆಮ್ಲ ತೊಳೆಯುವಿಕೆಯ ಉದ್ದೇಶವೆಂದರೆ ಆಮ್ಲ ಮತ್ತು ಲೋಹದ ಆಕ್ಸೈಡ್‌ಗಳ ನಡುವಿನ ರಾಸಾಯನಿಕ ಕ್ರಿಯೆಯ ಮೂಲಕ ಕರಗುವ ವಸ್ತುಗಳನ್ನು ತೆಗೆದುಹಾಕುವುದು.

ಆಮ್ಲ ತೊಳೆಯುವ ನಂತರ ನೀರಿನಿಂದ ತೊಳೆಯುವ ಉದ್ದೇಶವು ಆಮ್ಲ ತೊಳೆಯುವ ದ್ರಾವಣದ ಅವಶೇಷಗಳು ಮತ್ತು ತೊಳೆಯಲು ಮತ್ತು ನಿಷ್ಕ್ರಿಯಗೊಳಿಸುವ ಚಿಕಿತ್ಸೆಗಾಗಿ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯಿಂದ ಬಿದ್ದ ಘನ ಕಣಗಳನ್ನು ತೆಗೆದುಹಾಕುವುದು.

ಜಾಲಾಡುವಿಕೆಯ ಉದ್ದೇಶವು ಅಮೋನಿಯಂ ಸಿಟ್ರೇಟ್ ಅನ್ನು ಬಳಸಿಕೊಂಡು ವ್ಯವಸ್ಥೆಯಲ್ಲಿ ಉಳಿದಿರುವ ಕಬ್ಬಿಣದ ಅಯಾನುಗಳೊಂದಿಗೆ ಚೆಲೇಟ್ ಮಾಡುವುದು ಮತ್ತು ನೀರು ತೊಳೆಯುವ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಲ್ಲಿ ರೂಪುಗೊಂಡ ತೇಲುವ ತುಕ್ಕು ತೆಗೆಯುವುದು, ವ್ಯವಸ್ಥೆಯಲ್ಲಿನ ಒಟ್ಟು ಕಬ್ಬಿಣದ ಅಯಾನು ಸಾಂದ್ರತೆಯನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡುವುದು ಮತ್ತು ನಂತರದ ನಿಷ್ಕ್ರಿಯ ಪರಿಣಾಮವನ್ನು ಖಚಿತಪಡಿಸುವುದು.

ತಟಸ್ಥೀಕರಣ ಮತ್ತು ನಿಷ್ಕ್ರಿಯ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ಉದ್ದೇಶವು ಉಳಿದ ಆಮ್ಲ ದ್ರಾವಣವನ್ನು ತೆಗೆದುಹಾಕುವುದಾಗಿದೆ, ಆದರೆ ನಿಷ್ಕ್ರಿಯೀಕರಣವು ಆಮ್ಲ ತೊಳೆಯುವಿಕೆಯ ನಂತರ ಸಕ್ರಿಯ ಸ್ಥಿತಿಯಲ್ಲಿರುವ ಲೋಹದ ಮೇಲ್ಮೈಯನ್ನು ಮರು ಆಕ್ಸಿಡೀಕರಣಗೊಳಿಸುವುದನ್ನು ಮತ್ತು ದ್ವಿತೀಯಕ ತೇಲುವ ತುಕ್ಕು ಉತ್ಪಾದಿಸುವುದನ್ನು ತಡೆಯುವುದಾಗಿದೆ.

 

ಕೆಲಸ ಆರಂಭದ ನಂತರ ಸ್ವಚ್ಛಗೊಳಿಸುವಿಕೆ

1-2 ವರ್ಷ ಅಥವಾ ಅದಕ್ಕಿಂತ ಹೆಚ್ಚು ಕಾಲ ಕಾರ್ಯನಿರ್ವಹಿಸುತ್ತಿರುವ ರಾಸಾಯನಿಕ ಉಪಕರಣಗಳು ಹೆಚ್ಚಾಗಿ ಕಬ್ಬಿಣದ ಆಕ್ಸೈಡ್ ಮಾಪಕ ಅಥವಾ ಉಕ್ಕನ್ನು ಹೊಂದಿರುವ ಮಾಪಕಕ್ಕೆ ಅಂಟಿಕೊಳ್ಳುತ್ತವೆ. ತಾಮ್ರದ ಮಾಪಕವು ತಾಮ್ರ ಆಕ್ಸೈಡ್ (CuO), ಮೂಲ ತಾಮ್ರದ ಕಾರ್ಬೋನೇಟ್ [Cu2 (OH) 2CO3] ಮತ್ತು ಲೋಹೀಯ ತಾಮ್ರವನ್ನು ಹೊಂದಿರುತ್ತದೆ.

ತುಕ್ಕು ಮಾಪಕವನ್ನು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಆಮ್ಲ ತೊಳೆಯುವ ಮೂಲಕ ತೆಗೆದುಹಾಕಬಹುದು. ಆಮ್ಲ ತೊಳೆಯುವ ವಿಧಾನ ಮತ್ತು ಹಂತಗಳು ಮೂಲತಃ ಕೆಲಸವನ್ನು ಪ್ರಾರಂಭಿಸುವ ಮೊದಲು ಉಪಕರಣವನ್ನು ಸ್ವಚ್ಛಗೊಳಿಸುವ ವಿಧಾನದಂತೆಯೇ ಇರುತ್ತವೆ.

ಕೊಳಕಿನಲ್ಲಿ ತಾಮ್ರದ ಅಂಶ ಹೆಚ್ಚಾದಾಗ, ಅದನ್ನು ಕೇವಲ ಆಮ್ಲ ತೊಳೆಯುವಿಕೆಯಿಂದ ತೆಗೆದುಹಾಕಲು ಸಾಧ್ಯವಿಲ್ಲ. ಆಮ್ಲ ತೊಳೆಯುವ ಮೊದಲು ಅಮೋನಿಯಾ ನೀರಿನಿಂದ ತಾಮ್ರದ ಅಂಶವನ್ನು ತೆಗೆದುಹಾಕುವುದು ಅವಶ್ಯಕ.

ತಾಮ್ರ ಮತ್ತು ತಾಮ್ರದ ಆಕ್ಸೈಡ್ ಮಾಪಕಗಳು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಕಬ್ಬಿಣದ ಆಕ್ಸೈಡ್‌ಗಳೊಂದಿಗೆ ಲೇಯರ್ಡ್ ಲಗತ್ತುಗಳನ್ನು ರೂಪಿಸುತ್ತವೆ, ಇವುಗಳನ್ನು ಸ್ವಚ್ಛಗೊಳಿಸಲು ಕಷ್ಟ ಮತ್ತು ಲೇಯರ್ಡ್ ಲಗತ್ತುಗಳ ರಚನೆಯ ಮೊದಲು ಸ್ವಚ್ಛಗೊಳಿಸಬೇಕು.

 

ಶಾಖ ವಿನಿಮಯಕಾರಕವನ್ನು ಹೇಗೆ ಸ್ವಚ್ಛಗೊಳಿಸುವುದು?

ಶಾಖ ವಿನಿಮಯಕಾರಕಗಳ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆಯನ್ನು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಎರಡು ವರ್ಗಗಳಾಗಿ ವಿಂಗಡಿಸಲಾಗಿದೆ: ಯಾಂತ್ರಿಕ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆ ಮತ್ತು ರಾಸಾಯನಿಕ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆ.

 

ಯಾಂತ್ರಿಕ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆ

ಯಾಂತ್ರಿಕ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವ ವಿಧಾನವು ದ್ರವದ ಹರಿವು ಅಥವಾ ಯಾಂತ್ರಿಕ ಕ್ರಿಯೆಯ ಮೇಲೆ ಅವಲಂಬಿತವಾಗಿದೆ, ಇದು ಕೊಳೆಯ ಅಂಟಿಕೊಳ್ಳುವಿಕೆಯ ಬಲಕ್ಕಿಂತ ಹೆಚ್ಚಿನ ಶಕ್ತಿಯನ್ನು ಒದಗಿಸುತ್ತದೆ, ಇದರಿಂದಾಗಿ ಕೊಳಕು ಶಾಖ ವಿನಿಮಯ ಮೇಲ್ಮೈಯಿಂದ ಬೇರ್ಪಡುತ್ತದೆ.

ಎರಡು ರೀತಿಯ ಯಾಂತ್ರಿಕ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವ ವಿಧಾನಗಳಿವೆ: ಒಂದು ಬಲವಾದ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವ ವಿಧಾನ, ಉದಾಹರಣೆಗೆ ನೀರಿನ ಸ್ಪ್ರೇ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆ, ಉಗಿ ಸ್ಪ್ರೇ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆ, ಮರಳು ಬ್ಲಾಸ್ಟಿಂಗ್ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆ, ಸ್ಕ್ರಾಪರ್ ಅಥವಾ ಡ್ರಿಲ್ ಬಿಟ್ ಡೆಸ್ಕೇಲಿಂಗ್, ಇತ್ಯಾದಿ; ಇನ್ನೊಂದು ವಿಧವೆಂದರೆ ಮೃದುವಾದ ಯಾಂತ್ರಿಕ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆ, ಉದಾಹರಣೆಗೆ ವೈರ್ ಬ್ರಷ್ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆ ಮತ್ತು ರಬ್ಬರ್ ಬಾಲ್ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆ. ಕೆಳಗೆ ಹಲವಾರು ರೀತಿಯ ವಿಧಾನಗಳಿವೆ:

ಸ್ಪ್ರೇ ಕ್ಲೀನಿಂಗ್ ಎನ್ನುವುದು ಹೆಚ್ಚಿನ ಒತ್ತಡದ ನೀರಿನ ಸಿಂಪಡಣೆ ಅಥವಾ ಯಾಂತ್ರಿಕ ಪ್ರಭಾವವನ್ನು ಬಳಸಿಕೊಂಡು ಡೆಸ್ಕೇಲಿಂಗ್ ವಿಧಾನವಾಗಿದೆ. ಈ ವಿಧಾನವನ್ನು ಬಳಸುವಾಗ, ನೀರಿನ ಒತ್ತಡವು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ 20~50MPa ಆಗಿರುತ್ತದೆ. ಈಗ 50-70Mpa ಹೆಚ್ಚಿನ ಒತ್ತಡಗಳನ್ನು ಸಹ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತಿದೆ.

ಸ್ಪ್ರೇ ಕ್ಲೀನಿಂಗ್, ವಿನ್ಯಾಸ ಮತ್ತು ಕಾರ್ಯಾಚರಣೆಯಲ್ಲಿ ಸ್ಪ್ರೇ ಕ್ಲೀನಿಂಗ್ ಅನ್ನು ಹೋಲುತ್ತದೆ, ಇದು ಶಾಖ ವಿನಿಮಯಕಾರಕದ ಟ್ಯೂಬ್ ಮತ್ತು ಶೆಲ್ ಬದಿಗಳಿಗೆ ಉಗಿಯನ್ನು ಸಿಂಪಡಿಸುವ ಸಾಧನವಾಗಿದ್ದು, ಪ್ರಭಾವ ಮತ್ತು ಶಾಖದ ಮೂಲಕ ಕೊಳೆಯನ್ನು ತೆಗೆದುಹಾಕುತ್ತದೆ.

ಮರಳು ಬ್ಲಾಸ್ಟಿಂಗ್ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆಯು ಸ್ಪ್ರೇ ಗನ್ ಮೂಲಕ ಸಂಕುಚಿತ ಗಾಳಿಯನ್ನು (300-350kPa) ಬಳಸುವ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಾಗಿದ್ದು, ಇದು ಪರದೆಯ ಮೇಲೆ ಬಲವಾದ ರೇಖೀಯ ವೇಗವನ್ನು ಉತ್ಪಾದಿಸುತ್ತದೆ. ಕ್ವಾರ್ಟ್ಜ್ ಮರಳಿನ ಮೇಲೆ (ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ 3-5mm ಕಣದ ಗಾತ್ರದೊಂದಿಗೆ), ಇದು ಶಾಖ ವಿನಿಮಯಕಾರಕ ಕೊಳವೆಯ ಒಳಗಿನ ಗೋಡೆಯನ್ನು ತೊಳೆಯುತ್ತದೆ, ಕೊಳೆಯನ್ನು ತೆಗೆದುಹಾಕುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಕೊಳವೆಯ ಮೂಲ ಶಾಖ ವರ್ಗಾವಣೆ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಪುನಃಸ್ಥಾಪಿಸುತ್ತದೆ.

ಸ್ಕ್ರಾಪರ್ ಅಥವಾ ಡ್ರಿಲ್ ಬಿಟ್ ಡೆಸ್ಕೇಲಿಂಗ್, ಈ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವ ಯಂತ್ರವು ಪೈಪ್‌ಗಳು ಅಥವಾ ಸಿಲಿಂಡರ್‌ಗಳ ಒಳಗಿನ ಕೊಳೆಯನ್ನು ಸ್ವಚ್ಛಗೊಳಿಸಲು ಮಾತ್ರ ಸೂಕ್ತವಾಗಿದೆ. ಹೊಂದಿಕೊಳ್ಳುವ ತಿರುಗುವ ಶಾಫ್ಟ್‌ನ ಮೇಲ್ಭಾಗದಲ್ಲಿ ಡೆಸ್ಕೇಲಿಂಗ್ ಸ್ಕ್ರಾಪರ್ ಅಥವಾ ಡ್ರಿಲ್ ಬಿಟ್ ಅನ್ನು ಸ್ಥಾಪಿಸಿ ಮತ್ತು ಸ್ಕ್ರಾಪರ್ ಅಥವಾ ಡ್ರಿಲ್ ಬಿಟ್ ಅನ್ನು ಸಂಕುಚಿತ ಗಾಳಿ ಅಥವಾ ವಿದ್ಯುತ್ ಮೂಲಕ ತಿರುಗಿಸಿ (ನೀರು ಅಥವಾ ಉಗಿಯನ್ನು ಸಹ ಬಳಸಿ).

ರಬ್ಬರ್ ಬಾಲ್ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆಯನ್ನು ಶಾಟ್ ಬ್ಲಾಸ್ಟಿಂಗ್ ಕ್ಲೀನರ್ ಬಳಸಿ ನಡೆಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಶಾಟ್ ಬ್ಲಾಸ್ಟಿಂಗ್ ಕ್ಲೀನರ್ ಸ್ಪಾಂಜ್ ಬಾಲ್ ಮತ್ತು ಫ್ಲೂಯಿಡ್ ಸ್ಪ್ರೇ ಗನ್ ನಿಂದ ಕೂಡಿದ್ದು, ಅದು ಚೆಂಡನ್ನು ಸ್ವಚ್ಛಗೊಳಿಸಲು ಪೈಪ್ ನ ಒಳಭಾಗಕ್ಕೆ ತಳ್ಳುತ್ತದೆ. ಚೆಂಡನ್ನು ಶೆಲ್ ನ ಆಕಾರದಲ್ಲಿ ಹೊಂದಿದ್ದು, ಅರೆ ಗಟ್ಟಿಯಾದ ಫೋಮ್ ಪಾಲಿಯುರೆಥೇನ್ ಸ್ಪಂಜಿನಿಂದ ಹೊರತೆಗೆಯಲಾಗುತ್ತದೆ, ಇದು ಸ್ಥಿತಿಸ್ಥಾಪಕವಾಗಿದೆ.

 

ರಾಸಾಯನಿಕ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆ

ರಾಸಾಯನಿಕ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವ ವಿಧಾನವು ಕೊಳಕು ಮತ್ತು ಶಾಖ ವಿನಿಮಯ ಮೇಲ್ಮೈ ನಡುವಿನ ಅಂಟಿಕೊಳ್ಳುವಿಕೆಯನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡಲು ದ್ರವಕ್ಕೆ ಡೆಸ್ಕೇಲಿಂಗ್ ಏಜೆಂಟ್‌ಗಳು, ಆಮ್ಲಗಳು, ಕಿಣ್ವಗಳು ಇತ್ಯಾದಿಗಳನ್ನು ಸೇರಿಸುವುದನ್ನು ಒಳಗೊಂಡಿರುತ್ತದೆ, ಇದರಿಂದಾಗಿ ಅದು ಶಾಖ ವಿನಿಮಯ ಮೇಲ್ಮೈಯಿಂದ ಸಿಪ್ಪೆ ಸುಲಿಯುತ್ತದೆ.

ಪ್ರಸ್ತುತ ಬಳಸಲಾಗುವ ರಾಸಾಯನಿಕ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವ ವಿಧಾನಗಳು:

ಪರಿಚಲನಾ ವಿಧಾನ: ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವ ದ್ರಾವಣವನ್ನು ಪಂಪ್ ಬಳಸಿ ಶುದ್ಧೀಕರಣಕ್ಕಾಗಿ ಪರಿಚಲನೆ ಮಾಡುವಂತೆ ಒತ್ತಾಯಿಸಿ.

ಇಮ್ಮರ್ಶನ್ ವಿಧಾನ: ಉಪಕರಣವನ್ನು ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವ ದ್ರಾವಣದಿಂದ ತುಂಬಿಸಿ ಮತ್ತು ಅದನ್ನು ನಿರ್ದಿಷ್ಟ ಸಮಯದವರೆಗೆ ನಿಲ್ಲಲು ಬಿಡಿ.

ಸರ್ಜ್ ವಿಧಾನ: ಉಪಕರಣವನ್ನು ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವ ದ್ರಾವಣದಿಂದ ತುಂಬಿಸಿ, ನಿಯಮಿತ ಮಧ್ಯಂತರದಲ್ಲಿ ಕೆಳಗಿನಿಂದ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವ ದ್ರಾವಣದ ಒಂದು ಭಾಗವನ್ನು ಹೊರಹಾಕಿ, ಮತ್ತು ನಂತರ ಹೊರಹಾಕಿದ ದ್ರವವನ್ನು ಉಪಕರಣಕ್ಕೆ ಮರುಸ್ಥಾಪಿಸಿ ಬೆರೆಸಿ ಸ್ವಚ್ಛಗೊಳಿಸುವ ಉದ್ದೇಶವನ್ನು ಸಾಧಿಸಿ.

 

ರಿಯಾಕ್ಷನ್ ಕೆಟಲ್ ಅನ್ನು ಹೇಗೆ ಸ್ವಚ್ಛಗೊಳಿಸುವುದು?

ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯಾ ನಾಳಗಳನ್ನು ಸ್ವಚ್ಛಗೊಳಿಸಲು ಮೂರು ಮುಖ್ಯ ವಿಧಾನಗಳಿವೆ: ಯಾಂತ್ರಿಕ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆ, ರಾಸಾಯನಿಕ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆ ಮತ್ತು ಹಸ್ತಚಾಲಿತ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆ.

 

ಯಾಂತ್ರಿಕ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆ

ಯಾಂತ್ರಿಕ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆ: ಹೆಚ್ಚಿನ ಒತ್ತಡದ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವ ಸಾಧನವನ್ನು ಬಳಸಿಕೊಂಡು, ಹೆಚ್ಚಿನ ಒತ್ತಡದ ನೀರಿನ ಹರಿವನ್ನು ನಳಿಕೆಯ ಮೂಲಕ ಹರಿಯಲು ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ, ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯಾ ಪಾತ್ರೆಯ ಒಳಗಿನ ಗೋಡೆ ಮತ್ತು ಆಂದೋಲಕದ ಮೇಲ್ಮೈಯಲ್ಲಿರುವ ಗಟ್ಟಿಯಾದ ಮಾಪಕವನ್ನು ಒಡೆಯುತ್ತದೆ, ಅದನ್ನು ಸಂಪೂರ್ಣವಾಗಿ ಸಿಪ್ಪೆ ಸುಲಿದು ತೆಗೆದುಹಾಕುತ್ತದೆ.

ಹೆಚ್ಚಿನ ಒತ್ತಡದ ನೀರಿನ ಜೆಟ್ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆಯ ತತ್ವವೆಂದರೆ ನೀರನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿನ ಒತ್ತಡಕ್ಕೆ ಸಂಕುಚಿತಗೊಳಿಸುವುದು ಮತ್ತು ನಂತರ ಕೆಟಲ್‌ಗೆ ಸೇರಿಸಲಾದ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವ ರೋಬೋಟ್‌ನಲ್ಲಿ ಸ್ಥಾಪಿಸಲಾದ ನಳಿಕೆಯ ಮೂಲಕ ಬಿಡುಗಡೆ ಮಾಡುವುದು. ಒತ್ತಡವನ್ನು ನೀರಿನ ಹರಿವಿನ ಚಲನ ಶಕ್ತಿಯಾಗಿ ಪರಿವರ್ತಿಸಬಹುದು, ಇದು ಸ್ವಚ್ಛಗೊಳಿಸುವ ಮತ್ತು ತೆಗೆದುಹಾಕುವ ಪರಿಣಾಮಗಳನ್ನು ಸಾಧಿಸಲು ಗೋಡೆಯ ಕೊಳೆಯ ಮೇಲೆ ಪರಿಣಾಮ ಬೀರುತ್ತದೆ.
ರಾಸಾಯನಿಕ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆ

ಮೊದಲನೆಯದಾಗಿ, ರಿಯಾಕ್ಟರ್ ಉಪಕರಣದೊಳಗಿನ ಮಾಪಕ ಮಾದರಿಯ ಸಂಯೋಜನೆಯನ್ನು ತಿಳಿದುಕೊಳ್ಳುವುದು ಅವಶ್ಯಕ, ಮೇಲಾಗಿ ಮಾದರಿ ಮತ್ತು ವಿಶ್ಲೇಷಣೆಯ ಮೂಲಕ. ಕೊಳೆಯ ಸಂಯೋಜನೆಯನ್ನು ನಿರ್ಧರಿಸಿದ ನಂತರ, ಮೊದಲು ಪ್ರಯೋಗಗಳನ್ನು ನಡೆಸಿ, ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವ ಏಜೆಂಟ್‌ಗಳನ್ನು ಆಯ್ಕೆಮಾಡಿ ಮತ್ತು ಅವು ಉಪಕರಣದ ಲೋಹಕ್ಕೆ ತುಕ್ಕು ಹಿಡಿಯುವುದಿಲ್ಲ ಎಂದು ಪ್ರಯೋಗಗಳ ಮೂಲಕ ದೃಢೀಕರಿಸಿ. ನಂತರ, ಉಪಕರಣದೊಳಗೆ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವ ದ್ರಾವಣವನ್ನು ಪ್ರಸಾರ ಮಾಡಲು ಮತ್ತು ಕೊಳೆಯನ್ನು ತೊಳೆಯಲು ಸ್ಥಳದಲ್ಲಿ ತಾತ್ಕಾಲಿಕ ಪರಿಚಲನಾ ಸಾಧನವನ್ನು ಸ್ಥಾಪಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ.

ಮೊದಲು, ಮಿಕ್ಸಿಂಗ್ ಬ್ಲೇಡ್ ಮತ್ತು ಕೆಟಲ್‌ನ ಒಳಗೋಡೆಯನ್ನು ಸೂಕ್ತ ಪ್ರಮಾಣದ ನೀರಿನಿಂದ ತೊಳೆಯಿರಿ ಮತ್ತು ಅವುಗಳನ್ನು ಸಂಪೂರ್ಣವಾಗಿ ಬಸಿದು ಹಾಕಿ.

ಒತ್ತಡಕ್ಕೊಳಗಾದ ಸಾಧನದ ಮೂಲಕ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯಾ ಪಾತ್ರೆಯನ್ನು ದ್ರಾವಕದಿಂದ ಫ್ಲಶ್ ಮಾಡಿ.

ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವ ಪರಿಣಾಮವನ್ನು ಸಾಧಿಸದಿದ್ದರೆ, ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯಾ ಕೆಟಲ್‌ಗೆ ಸೂಕ್ತ ಪ್ರಮಾಣದ ದ್ರಾವಕವನ್ನು ಸೇರಿಸಿ, ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವ ಅವಶ್ಯಕತೆಗಳನ್ನು ಪೂರೈಸುವವರೆಗೆ ಬಿಸಿ ಮಾಡಿ, ಬೆರೆಸಿ ಮತ್ತು ರಿಫ್ಲಕ್ಸ್ ಮಾಡಿ, ನಂತರ ದ್ರಾವಕವನ್ನು ಬಿಡುಗಡೆ ಮಾಡಿ.

ಅಂತಿಮವಾಗಿ, ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯಾ ಪಾತ್ರೆಯ ಒಳಗಿನ ಗೋಡೆಯನ್ನು ನಿರ್ದಿಷ್ಟ ಪ್ರಮಾಣದ ದ್ರಾವಕದಿಂದ ತೊಳೆದು ಬಿಡುಗಡೆ ಮಾಡಿ.

ಕೆಟಲ್‌ಗೆ ಹಸ್ತಚಾಲಿತ ಪ್ರವೇಶ ಮತ್ತು ಹಸ್ತಚಾಲಿತ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆ

ಕಡಿಮೆ ವೆಚ್ಚವು ಇದರ ದೊಡ್ಡ ಪ್ರಯೋಜನವಾಗಿದೆ, ಆದರೆ ರಿಯಾಕ್ಟರ್ ಅನ್ನು ಪ್ರವೇಶಿಸುವ ಮೊದಲು ಇದಕ್ಕೆ ಹಲವಾರು ಗಂಟೆಗಳ ವಾತಾಯನ ಮತ್ತು ವಾಯು ವಿನಿಮಯದ ಅಗತ್ಯವಿರುತ್ತದೆ. ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಲ್ಲಿ, ರಿಯಾಕ್ಟರ್‌ನೊಳಗಿನ ಆಮ್ಲಜನಕದ ಸಾಂದ್ರತೆಯನ್ನು ಎಲ್ಲಾ ಸಮಯದಲ್ಲೂ ಮೇಲ್ವಿಚಾರಣೆ ಮಾಡಬೇಕು, ಇದು ಆಮ್ಲಜನಕದ ಕೊರತೆಯ ಅಪಾಯವನ್ನುಂಟುಮಾಡುತ್ತದೆ; ಅದೇ ಸಮಯದಲ್ಲಿ, ಹಸ್ತಚಾಲಿತ ಸ್ಕ್ರ್ಯಾಪಿಂಗ್ ಸಂಪೂರ್ಣವಾಗಿ ಸ್ವಚ್ಛಗೊಳಿಸಲು ವಿಫಲವಾಗುವುದಲ್ಲದೆ, ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯಾ ಪಾತ್ರೆಯ ಒಳಗಿನ ಗೋಡೆಯ ಮೇಲೆ ಜಾರುವ ಗುರುತುಗಳನ್ನು ಉಂಟುಮಾಡುತ್ತದೆ, ಇದು ವಸ್ತುನಿಷ್ಠವಾಗಿ ಉಳಿಕೆಗಳ ಮತ್ತಷ್ಟು ಅಂಟಿಕೊಳ್ಳುವಿಕೆಗೆ ಕಾರಣವಾಗುತ್ತದೆ. ಕೆಟಲ್ ಅನ್ನು ಸ್ವಚ್ಛಗೊಳಿಸುವುದು ಉತ್ಪನ್ನದೊಂದಿಗೆ ನೈರ್ಮಲ್ಯ ಸಮಸ್ಯೆಗಳನ್ನು ಉಂಟುಮಾಡಬಹುದು. ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಹೇಳುವುದಾದರೆ, ಕೆಟಲ್ ಅನ್ನು ಸ್ವಚ್ಛಗೊಳಿಸಲು ಸುಮಾರು ಅರ್ಧ ದಿನದಿಂದ ಒಂದು ದಿನ ತೆಗೆದುಕೊಳ್ಳುತ್ತದೆ.

ಮೂರು ವಿಧಾನಗಳಲ್ಲಿ ಪ್ರತಿಯೊಂದೂ ತನ್ನದೇ ಆದ ಅನುಕೂಲಗಳು ಮತ್ತು ಅನಾನುಕೂಲಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ:

ಯಾಂತ್ರಿಕ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆಯು ಉಪಕರಣಗಳನ್ನು ನಾಶಪಡಿಸುವುದಿಲ್ಲ ಮತ್ತು ಪರಿಣಾಮಕಾರಿಯಾಗಿ ಹಾರ್ಡ್ ಸ್ಕೇಲ್ ಅನ್ನು ಸ್ವಚ್ಛಗೊಳಿಸಬಹುದು, ಆದರೆ ಇದು ಬಹಳ ಸಮಯ ತೆಗೆದುಕೊಳ್ಳುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಹೆಚ್ಚಿನ ಶ್ರಮದಾಯಕತೆಯ ಅಗತ್ಯವಿರುತ್ತದೆ;

ರಾಸಾಯನಿಕ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆಗೆ ಕಡಿಮೆ ಶ್ರಮ ಬೇಕಾಗುತ್ತದೆ, ಕಡಿಮೆ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವ ಸಮಯವಿರುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಸಂಪೂರ್ಣವಾಗಿ ಸ್ವಚ್ಛಗೊಳಿಸುತ್ತದೆ, ಆದರೆ ಇದು ಉಪಕರಣಗಳು ತುಕ್ಕು ಹಿಡಿಯಲು ಕಾರಣವಾಗಬಹುದು;

ಸ್ವಚ್ಛಗೊಳಿಸಲು ಕೆಟಲ್ ಅನ್ನು ಹಸ್ತಚಾಲಿತವಾಗಿ ನಮೂದಿಸುವುದು ಕಡಿಮೆ ವೆಚ್ಚದಾಯಕವಾಗಿದೆ, ಆದರೆ ಇದು ಹೆಚ್ಚಿನ ಮಟ್ಟದ ಅಪಾಯವನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ ಮತ್ತು ಸಂಪೂರ್ಣವಾಗಿ ಸ್ವಚ್ಛಗೊಳಿಸಲು ಸಾಧ್ಯವಿಲ್ಲ.

ಆದ್ದರಿಂದ, ಕೊಳಕು ಮೃದು ಮತ್ತು ತೆಳ್ಳಗಿರುವ ಕೆಲಸದ ಪರಿಸ್ಥಿತಿಗಳಲ್ಲಿ ರಾಸಾಯನಿಕ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆಯನ್ನು ಅನ್ವಯಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ, ಆದರೆ ಕೊಳಕು ಗಟ್ಟಿಯಾಗಿ ಮತ್ತು ದಪ್ಪವಾಗಿರುವ ಕೆಲಸದ ಪರಿಸ್ಥಿತಿಗಳಲ್ಲಿ ಯಾಂತ್ರಿಕ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆಯನ್ನು ಅನ್ವಯಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ.