ನಮ್ಮ ಮುಖ್ಯ ಉತ್ಪನ್ನಗಳು: ಅಮೈನೊ ಸಿಲಿಕೋನ್, ಬ್ಲಾಕ್ ಸಿಲಿಕೋನ್, ಹೈಡ್ರೋಫಿಲಿಕ್ ಸಿಲಿಕೋನ್, ಅವುಗಳ ಎಲ್ಲಾ ಸಿಲಿಕೋನ್ ಎಮಲ್ಷನ್, ವೇಗವನ್ನು ಉಜ್ಜುವ ವೇಗದ ಸುಧಾರಣೆ, ನೀರಿನ ನಿವಾರಕ (ಫ್ಲೋರಿನ್ ಮುಕ್ತ, ಕಾರ್ಬನ್ 6, ಕಾರ್ಬನ್ 8), ಡೆಮಿನ್ ವಾಷಿಂಗ್ ಕೆಮಿಕಲ್ಸ್ (ಎಬಿಎಸ್, ಕಿಣ್ವ, ಸ್ಪ್ಯಾಂಡೆಕ್ಸ್ ಪ್ರೊಟೆಕ್ಟರ್, ಉಜ್ಬೇಕಿಸ್ತಾನ್, ಇತ್ಯಾದಿ

 

ರಾಸಾಯನಿಕ ಉತ್ಪಾದನೆಯ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಲ್ಲಿ, ವಿವಿಧ ಕಾರಣಗಳಿಂದಾಗಿ, ಪಾಲಿಮರ್‌ಗಳು, ಕೋಕಿಂಗ್, ತೈಲ ಮತ್ತು ಧೂಳು, ಪ್ರಮಾಣದ, ಕೆಸರು ಮತ್ತು ನಾಶಕಾರಿ ಉತ್ಪನ್ನಗಳಂತಹ ಧೂಳು ಮತ್ತು ಕೊಳಕು ಉಪಕರಣಗಳು ಮತ್ತು ಪೈಪ್‌ಲೈನ್‌ಗಳಲ್ಲಿ ಸಂಭವಿಸಬಹುದು. ಇವು ಸಲಕರಣೆಗಳ ಬಳಕೆಯನ್ನು ಗಂಭೀರವಾಗಿ ಪರಿಣಾಮ ಬೀರುತ್ತವೆ, ಆದ್ದರಿಂದ ರಾಸಾಯನಿಕ ಉಪಕರಣಗಳನ್ನು ಸ್ವಚ್ clean ಗೊಳಿಸುವುದು ಬಹಳ ಮುಖ್ಯ.

ರಾಸಾಯನಿಕ ಸಲಕರಣೆಗಳ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆಯು ಎರಡು ಪ್ರಕಾರಗಳನ್ನು ಒಳಗೊಂಡಿದೆ: ಆನ್‌ಲೈನ್ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆ ಮತ್ತು ಆಫ್‌ಲೈನ್ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆ.

 

ಆನ್‌ಲೈನ್ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆ

ನೈಸರ್ಗಿಕ ರಕ್ತಪರಿಚಲನೆಗೆ ವ್ಯವಸ್ಥೆಗೆ ರಾಸಾಯನಿಕಗಳನ್ನು ಸೇರಿಸಲು ಡೋಸಿಂಗ್ ಬಾಕ್ಸ್ ಆಗಿ ಪರಿಚಲನೆ ಮಾಡುವ ನೀರಿನ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯಲ್ಲಿ ಕೂಲಿಂಗ್ ಗೋಪುರವನ್ನು ಬಳಸಿ.

ಪ್ರಯೋಜನಗಳು: ಉಪಕರಣಗಳನ್ನು ಸ್ಥಗಿತಗೊಳಿಸುವ ಅಗತ್ಯವಿಲ್ಲ ಮತ್ತು ಸಾಮಾನ್ಯ ಉತ್ಪಾದನೆ ಮತ್ತು ಬಳಕೆಯ ಮೇಲೆ ಪರಿಣಾಮ ಬೀರುವುದಿಲ್ಲ.

ಅನಾನುಕೂಲತೆ: ಆಫ್‌ಲೈನ್ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆಗೆ ಹೋಲಿಸಿದರೆ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವ ಪರಿಣಾಮವು ಉತ್ತಮವಾಗಿಲ್ಲ. ದೀರ್ಘ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವ ಸಮಯ ಮತ್ತು ಸಲಕರಣೆಗಳಿಗೆ ಗಮನಾರ್ಹವಾದ ತುಕ್ಕು ಅಪಾಯಗಳು.

 

ಆಫ್-ಲೈನ್ ವಾಷಿಂಗ್

ಉಪಕರಣಗಳು ಅಥವಾ ಪೈಪ್‌ಲೈನ್‌ಗಳಿಂದ ಸ್ವಚ್ ed ಗೊಳಿಸಬೇಕಾದ ಘಟಕಗಳನ್ನು ಡಿಸ್ಅಸೆಂಬಲ್ ಮಾಡುವ ಮತ್ತು ಸ್ವಚ್ cleaning ಗೊಳಿಸಲು ಅವುಗಳನ್ನು ಮತ್ತೊಂದು ಸ್ಥಳಕ್ಕೆ (ಘಟಕಗಳ ಮೂಲ ಸ್ಥಳಕ್ಕೆ ಹೋಲಿಸಿದರೆ) ಸಾಗಿಸುವ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯನ್ನು ಇದು ಸೂಚಿಸುತ್ತದೆ.

ಆಫ್‌ಲೈನ್ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆಯನ್ನು ಭೌತಿಕ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆ ಮತ್ತು ರಾಸಾಯನಿಕ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆಯಾಗಿ ವಿಂಗಡಿಸಬಹುದು.

ಭೌತಿಕ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆ: ಉಪಕರಣಗಳನ್ನು ಸ್ವಚ್ clean ಗೊಳಿಸಲು ಅಧಿಕ-ಒತ್ತಡದ ಚಾಲನೆಯಲ್ಲಿರುವ ನೀರನ್ನು ಬಳಸಿ. ಅಧಿಕ ಒತ್ತಡ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವ ಉಪಕರಣಗಳು ಅಗತ್ಯವಿದೆ.

ರಾಸಾಯನಿಕ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆ: ಶಾಖ ವಿನಿಮಯಕಾರಕವನ್ನು ಪ್ರತ್ಯೇಕವಾಗಿ ಹೊರತೆಗೆಯಿರಿ ಮತ್ತು ಚಲಾವಣೆಯಲ್ಲಿರುವ ನೀರಿನ ಒಳಹರಿವು ಮತ್ತು let ಟ್‌ಲೆಟ್ ಪೈಪ್‌ಲೈನ್‌ಗಳನ್ನು ಸ್ವಚ್ cleaning ಗೊಳಿಸುವ ವಾಹನಕ್ಕೆ ಸಂಪರ್ಕಪಡಿಸಿ. ರಾಸಾಯನಿಕ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆಯು ಈ ಕೆಳಗಿನ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ:

ಪ್ರಯೋಜನಗಳು: ation ಷಧಿಗಳ ಕಡಿಮೆ ಪ್ರಮಾಣ ಮತ್ತು ಉತ್ತಮ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವ ಪರಿಣಾಮ.

ಅನಾನುಕೂಲಗಳು: ಕಾರುಗಳು ಅಥವಾ ನೀರಿನ ಟ್ಯಾಂಕ್‌ಗಳನ್ನು ಸ್ವಚ್ cleaning ಗೊಳಿಸುವುದು, ಅಧಿಕ-ಒತ್ತಡದ ಪಂಪ್‌ಗಳು, ಸಂಪರ್ಕಿಸುವ ಕವಾಟಗಳ ವಿವಿಧ ವಿಶೇಷಣಗಳು, ವೆಲ್ಡಿಂಗ್ ಉಪಕರಣಗಳು ಮುಂತಾದ ಅನುಗುಣವಾದ ಉಪಕರಣಗಳು ಅಗತ್ಯವಿದೆ.

 

ರಾಸಾಯನಿಕ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆಯ ಎರಡು ರೂಪಗಳಿವೆ: ಆಮ್ಲ ತೊಳೆಯುವುದು ಮತ್ತು ಕ್ಷಾರ ತೊಳೆಯುವುದು.

ಕ್ಷಾರ ತೊಳೆಯುವುದು: ಮುಖ್ಯವಾಗಿ ಸಾವಯವ ವಸ್ತುಗಳು, ಸೂಕ್ಷ್ಮಜೀವಿಗಳು, ತೈಲ ಕಲೆಗಳು ಮತ್ತು ಉಪಕರಣಗಳೊಳಗಿನ ಇತರ ಲಗತ್ತುಗಳನ್ನು ತೆಗೆದುಹಾಕಲು ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ, ಉದಾಹರಣೆಗೆ ಸಲಕರಣೆಗಳ ಸ್ಥಾಪನೆಯ ಸಮಯದಲ್ಲಿ ಬಳಸಲಾಗುವ ರಸ್ಟ್ ಪ್ರತಿರೋಧಕಗಳು. ಕ್ಷಾರೀಯ ತೊಳೆಯುವಿಕೆಯು ಅಜೈವಿಕ ಲವಣಗಳನ್ನು ಸಡಿಲಗೊಳಿಸಲು, ಸಡಿಲಗೊಳಿಸಲು, ಎಮಲ್ಸಿಫೈಯಿಂಗ್ ಮತ್ತು ಚದುರಿಸುವಲ್ಲಿ ಒಂದು ಪಾತ್ರವನ್ನು ವಹಿಸುತ್ತದೆ. ಸಾಮಾನ್ಯ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವ ಏಜೆಂಟ್‌ಗಳಲ್ಲಿ ಸೋಡಿಯಂ ಹೈಡ್ರಾಕ್ಸೈಡ್, ಸೋಡಿಯಂ ಕಾರ್ಬೊನೇಟ್, ಟ್ರೈಸೋಡಿಯಂ ಫಾಸ್ಫೇಟ್, ಇಟಿಸಿ ಸೇರಿವೆ.

ಆಮ್ಲ ತೊಳೆಯುವುದು: ಮುಖ್ಯವಾಗಿ ಕಾರ್ಬೊನೇಟ್‌ಗಳು, ಸಲ್ಫೇಟ್‌ಗಳು, ಸಿಲಿಕಾ ಮಾಪಕಗಳು ಮುಂತಾದ ಅಜೈವಿಕ ಲವಣಗಳ ಶೇಖರಣೆಯನ್ನು ತೆಗೆದುಹಾಕಲು. ಸಾಮಾನ್ಯ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವ ಏಜೆಂಟ್‌ಗಳಲ್ಲಿ ಸಾವಯವ ಆಮ್ಲಗಳಾದ ಹೈಡ್ರೋಕ್ಲೋರಿಕ್ ಆಮ್ಲ, ಸಲ್ಫ್ಯೂರಿಕ್ ಆಮ್ಲ ಮತ್ತು ಹೈಡ್ರೋಫ್ಲೋರಿಕ್ ಆಮ್ಲ ಸೇರಿವೆ. ಸಾವಯವ ಆಮ್ಲಗಳಾದ ಸಿಟ್ರಿಕ್ ಆಮ್ಲ ಮತ್ತು ಅಮೈನೊ ಸಲ್ಫೋನಿಕ್ ಆಮ್ಲ.

 

ರಾಸಾಯನಿಕ ಉಪಕರಣಗಳನ್ನು ಏಕೆ ಸ್ವಚ್ clean ಗೊಳಿಸಬೇಕು?
1. ಚಾಲನೆ ಮಾಡುವ ಮೊದಲು ಸ್ವಚ್ cleaning ಗೊಳಿಸುವ ಅವಶ್ಯಕತೆ

ಉತ್ಪಾದನಾ ದಕ್ಷತೆಯನ್ನು ಸುಧಾರಿಸಲು ಮತ್ತು ಉತ್ಪಾದನೆಯ ಮೇಲೆ ಕೊಳಕು ಪ್ರಭಾವವನ್ನು ತಪ್ಪಿಸಲು ಚಾಲನೆ ಮಾಡುವ ಮೊದಲು ರಾಸಾಯನಿಕ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆ ಅವಶ್ಯಕ. ಆದ್ದರಿಂದ, ಹೊಸ ರಾಸಾಯನಿಕ ಉಪಕರಣಗಳನ್ನು ಕಾರ್ಯರೂಪಕ್ಕೆ ತರುವ ಮೊದಲು, ಪ್ರಾರಂಭಿಸುವ ಮೊದಲು ಅದನ್ನು ಸ್ವಚ್ ed ಗೊಳಿಸಬೇಕು.

ರಾಸಾಯನಿಕ ಉತ್ಪಾದನಾ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯು ಅನೇಕ ರಾಸಾಯನಿಕ ಕಚ್ಚಾ ವಸ್ತುಗಳನ್ನು ಒಳಗೊಂಡಿರುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ವೇಗವರ್ಧಕಗಳ ಬಳಕೆಯ ಅಗತ್ಯವಿರುತ್ತದೆ. ಕೆಲವು ಕಚ್ಚಾ ವಸ್ತುಗಳು ಮತ್ತು ವೇಗವರ್ಧಕಗಳಿಗೆ ಶುದ್ಧತೆಯ ಅವಶ್ಯಕತೆಗಳು ತುಂಬಾ ಹೆಚ್ಚಿವೆ, ಆದ್ದರಿಂದ ಉತ್ಪಾದನಾ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಲ್ಲಿ ಉಪಕರಣಗಳು ಮತ್ತು ಪೈಪ್‌ಲೈನ್‌ಗಳ ಸ್ವಚ್ iness ತೆಗೆ ಹೆಚ್ಚಿನ ಅವಶ್ಯಕತೆಗಳಿವೆ. ಯಾವುದೇ ಕಲ್ಮಶಗಳು ವೇಗವರ್ಧಕ ವಿಷ, ಅಡ್ಡ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಗಳು ಮತ್ತು ಸಂಪೂರ್ಣ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯನ್ನು ಹಾನಿಗೊಳಿಸಬಹುದು. ಇದಲ್ಲದೆ, ಸಾಧನದಲ್ಲಿನ ಕೆಲವು ಉಪಕರಣಗಳು ಮತ್ತು ಪರಿಕರಗಳು ಹೆಚ್ಚಿನ ನಿಖರ ಅವಶ್ಯಕತೆಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿವೆ ಅಥವಾ ಕಲ್ಮಶಗಳ ವಿನಾಶಕಾರಿ ಪರಿಣಾಮಗಳಿಗೆ ಹೆಚ್ಚು ಸೂಕ್ಷ್ಮವಾಗಿವೆ. ಆದ್ದರಿಂದ, ಯಾಂತ್ರಿಕ ಕಲ್ಮಶಗಳ ಯಾವುದೇ ಹಸ್ತಕ್ಷೇಪವು ನಿಖರ ಘಟಕಗಳ ಗುಣಮಟ್ಟವನ್ನು ಹಾನಿಗೊಳಿಸುವ ಸಾಧ್ಯತೆಯಿದೆ ಮತ್ತು ಸಾಮಾನ್ಯ ಉತ್ಪಾದನೆಯ ಮೇಲೆ ಪರಿಣಾಮ ಬೀರುತ್ತದೆ.

2. ಕೆಲಸವನ್ನು ಪ್ರಾರಂಭಿಸಿದ ನಂತರ ಸ್ವಚ್ cleaning ಗೊಳಿಸುವ ಅವಶ್ಯಕತೆ

ರಾಸಾಯನಿಕ ಉಪಕರಣಗಳು, ದೀರ್ಘಕಾಲದವರೆಗೆ ಬಳಸಿದಾಗ, ಪಾಲಿಮರ್‌ಗಳು, ಕೋಕಿಂಗ್, ತೈಲ ಮತ್ತು ಕೊಳಕು, ನೀರಿನ ಪ್ರಮಾಣ, ಸೆಡಿಮೆಂಟ್ ಮತ್ತು ನಾಶಕಾರಿ ಉತ್ಪನ್ನಗಳಂತಹ ಧೂಳನ್ನು ಉತ್ಪಾದಿಸಬಹುದು, ಇದು ರಾಸಾಯನಿಕ ಉಪಕರಣಗಳ ಕಾರ್ಯಾಚರಣೆಯನ್ನು ಗಂಭೀರವಾಗಿ ಪರಿಣಾಮ ಬೀರುತ್ತದೆ. ರಾಸಾಯನಿಕ ಉಪಕರಣಗಳನ್ನು ಸಮಯೋಚಿತವಾಗಿ ಸ್ವಚ್ cleaning ಗೊಳಿಸುವುದರಿಂದ ಅದರ ಸೇವಾ ಜೀವನವನ್ನು ವಿಸ್ತರಿಸಬಹುದು, ದಕ್ಷತೆಯನ್ನು ಸುಧಾರಿಸಬಹುದು, ಸುರಕ್ಷತೆಯನ್ನು ಖಚಿತಪಡಿಸಬಹುದು ಮತ್ತು ಆರ್ಥಿಕ ನಷ್ಟವನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡಬಹುದು.

ಆದ್ದರಿಂದ, ಚಾಲನೆ ಮಾಡುವ ಮೊದಲು ಅಥವಾ ಸ್ವಲ್ಪ ಸಮಯದವರೆಗೆ ಬಳಸುವ ನಂತರ, ಉಪಕರಣಗಳನ್ನು ಸ್ವಚ್ ed ಗೊಳಿಸಬೇಕು, ಇದು ಅಗತ್ಯವಾದ ದೈನಂದಿನ ನಿರ್ವಹಣಾ ಕಾರ್ಯವಾಗಿದೆ.

 

ರಾಸಾಯನಿಕ ಉಪಕರಣಗಳಿಗೆ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಗಳು ಯಾವುವು?

ಉಪಕರಣಗಳನ್ನು ಸ್ವಚ್ cleaning ಗೊಳಿಸುವ ಮೊದಲು ತಯಾರಿ

ಸ್ವಚ್ cleaning ಗೊಳಿಸುವ ಮೊದಲು, ಕವಾಟಗಳು ಮತ್ತು ಹರಿವಿನ ಮೀಟರ್‌ಗಳನ್ನು ನಿಯಂತ್ರಿಸುವಂತಹ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವ ದ್ರಾವಣದಿಂದ ತುಕ್ಕು ಮತ್ತು ಹಾನಿಗೆ ಒಳಗಾಗುವ ಉಪಕರಣಗಳು ಅಥವಾ ಸಾಧನದಲ್ಲಿನ ಘಟಕಗಳನ್ನು ತೆಗೆದುಹಾಕಬೇಕು ಮತ್ತು ಫಿಲ್ಟರ್ ಕೋರ್ (ಮೆಶ್) ಮತ್ತು ಒನ್-ವೇ ವಾಲ್ವ್ ಕೋರ್ ಅನ್ನು ತೆಗೆದುಹಾಕಬೇಕು. ಮತ್ತು ತಾತ್ಕಾಲಿಕ ಸಣ್ಣ ಕೊಳವೆಗಳು, ಬೈಪಾಸ್‌ಗಳು ಅಥವಾ ಕುರುಡು ಫಲಕಗಳನ್ನು ಸೇರಿಸುವುದು ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಲ್ಲಿ ಇತರ ಘಟಕಗಳಿಗೆ ಯಾವುದೇ ಸೋರಿಕೆ ಅಥವಾ ಹಾನಿ ಇಲ್ಲ ಎಂದು ಖಚಿತಪಡಿಸಿಕೊಳ್ಳಲು ಮತ್ತು ಸ್ವಚ್ clean ಗೊಳಿಸಿದ ಸಾಧನಗಳನ್ನು ಅಶುದ್ಧ ಉಪಕರಣಗಳು ಮತ್ತು ಪೈಪ್‌ಲೈನ್‌ಗಳಿಂದ ಬೇರ್ಪಡಿಸಲು ತೆಗೆದುಕೊಳ್ಳಬೇಕು.

 

ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವ ಕಾರ್ಯವಿಧಾನಗಳು ಮತ್ತು ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ಪರಿಸ್ಥಿತಿಗಳು

1. ಸ್ವಚ್ cleaning ಗೊಳಿಸುವ ವಿಧಾನ

ಸಲಕರಣೆಗಳ ನಿರ್ದಿಷ್ಟ ಪರಿಸ್ಥಿತಿಯ ಪ್ರಕಾರ, ನೆನೆಸುವ ಚಕ್ರ ಸ್ವಚ್ cleaning ಗೊಳಿಸುವಿಕೆ ಅಥವಾ ಸ್ಪ್ರೇ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆಯನ್ನು ಬಳಸಬಹುದು.

ನೆನೆಸುವ ಚಕ್ರ ಸ್ವಚ್ cleaning ಗೊಳಿಸುವಿಕೆಯನ್ನು ಬಳಸುವಾಗ, ಕಡಿಮೆ ಪಾಯಿಂಟ್ ಒಳಹರಿವಿನ ಎತ್ತರ, ಅಮೋನಿಯಾ ರಿಟರ್ನ್ ಸೈಕಲ್ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯನ್ನು ಅಳವಡಿಸಿಕೊಳ್ಳಬಹುದು.

ಸ್ಪ್ರೇ ಕ್ಲೀನಿಂಗ್ ಬಳಸುವಾಗ, ಹೈ ಪಾಯಿಂಟ್ ಲಿಕ್ವಿಡ್ ಇನ್ಲೆಟ್ ಮತ್ತು ಕಡಿಮೆ ಪಾಯಿಂಟ್ ರಿಫ್ಲಕ್ಸ್ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯನ್ನು ಅಳವಡಿಸಿಕೊಳ್ಳಬಹುದು.

.

ಕೆಳಗಿನವು ಪ್ರತಿ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಗೆ ವಿವರಣೆಯನ್ನು ಒದಗಿಸುತ್ತದೆ.

ತಾತ್ಕಾಲಿಕ ವ್ಯವಸ್ಥೆಗಳ ಸೋರಿಕೆ ಪರಿಸ್ಥಿತಿಯನ್ನು ಪರಿಶೀಲಿಸುವುದು ಮತ್ತು ಧೂಳು, ಕೆಸರು, ಬೇರ್ಪಟ್ಟ ಲೋಹದ ಆಕ್ಸೈಡ್‌ಗಳು, ವೆಲ್ಡಿಂಗ್ ಸ್ಲ್ಯಾಗ್ ಮತ್ತು ವ್ಯವಸ್ಥೆಯಿಂದ ಇತರ ಸಡಿಲ ಮತ್ತು ಸುಲಭವಾಗಿ ತೆಗೆಯಬಹುದಾದ ಕೊಳೆಯನ್ನು ತೆಗೆದುಹಾಕುವುದು ನೀರಿನ ಒತ್ತಡ ಸೋರಿಕೆ ಪತ್ತೆಹಚ್ಚುವಿಕೆಯ (ನೀರಿನ ಹರಿವಿನ) ಉದ್ದೇಶವಾಗಿದೆ.

ಕ್ಷೀಣಿಸುವ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವ ಉದ್ದೇಶವು ಯಾಂತ್ರಿಕ ತೈಲ, ಗ್ರ್ಯಾಫೈಟ್ ಗ್ರೀಸ್, ತೈಲ ಲೇಪನಗಳು ಮತ್ತು ಆಸಿಡ್ ಎಣ್ಣೆಯನ್ನು ಸಹ ಆಸಿಡ್ ತೊಳೆಯುವುದನ್ನು ಖಚಿತಪಡಿಸಿಕೊಳ್ಳಲು ತೈಲ ಕಲೆಗಳನ್ನು ತೆಗೆದುಹಾಕುವುದು.

ಡಿಗ್ರೀಸಿಂಗ್ ನಂತರ ನೀರು ತೊಳೆಯುವ ಉದ್ದೇಶವು ಉಳಿದ ಕ್ಷಾರೀಯ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವ ಏಜೆಂಟ್‌ಗಳನ್ನು ವ್ಯವಸ್ಥೆಯಿಂದ ತೆಗೆದುಹಾಕುವುದು ಮತ್ತು ಮೇಲ್ಮೈಯಿಂದ ಕೆಲವು ಕಲ್ಮಶಗಳನ್ನು ತೆಗೆದುಹಾಕುವುದು. ವಸ್ತುವನ್ನು ತೆಗೆದುಹಾಕಿ.

ಆಮ್ಲ ಮತ್ತು ಲೋಹದ ಆಕ್ಸೈಡ್‌ಗಳ ನಡುವಿನ ರಾಸಾಯನಿಕ ಕ್ರಿಯೆಯಿಂದ ಕರಗುವ ವಸ್ತುಗಳನ್ನು ತೆಗೆದುಹಾಕುವುದು ಆಮ್ಲ ತೊಳೆಯುವ ಉದ್ದೇಶ.

ಆಮ್ಲವನ್ನು ತೊಳೆಯುವ ನಂತರ ನೀರಿನೊಂದಿಗೆ ತೊಳೆಯುವ ಉದ್ದೇಶವೆಂದರೆ ಉಳಿದಿರುವ ಆಮ್ಲವನ್ನು ತೊಳೆಯುವ ದ್ರಾವಣ ಮತ್ತು ತೊಳೆಯುವ ಮತ್ತು ನಿಷ್ಕ್ರಿಯ ಚಿಕಿತ್ಸೆಗಾಗಿ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯಿಂದ ಬಿದ್ದ ಘನ ಕಣಗಳನ್ನು ತೆಗೆದುಹಾಕುವುದು.

ತೊಳೆಯುವ ಉದ್ದೇಶವು ವ್ಯವಸ್ಥೆಯಲ್ಲಿ ಉಳಿದಿರುವ ಕಬ್ಬಿಣದ ಅಯಾನುಗಳೊಂದಿಗೆ ಚೆಲೇಟ್ ಮಾಡಲು ಅಮೋನಿಯಂ ಸಿಟ್ರೇಟ್ ಅನ್ನು ಬಳಸುವುದು ಮತ್ತು ನೀರಿನ ತೊಳೆಯುವ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಲ್ಲಿ ರೂಪುಗೊಂಡ ತೇಲುವ ತುಕ್ಕು ತೆಗೆದುಹಾಕುವುದು, ವ್ಯವಸ್ಥೆಯಲ್ಲಿನ ಒಟ್ಟು ಕಬ್ಬಿಣದ ಅಯಾನು ಸಾಂದ್ರತೆಯನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡುವುದು ಮತ್ತು ನಂತರದ ನಿಷ್ಕ್ರಿಯ ಪರಿಣಾಮವನ್ನು ಖಾತ್ರಿಪಡಿಸುವುದು.

ತಟಸ್ಥೀಕರಣ ಮತ್ತು ನಿಷ್ಕ್ರಿಯ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ಉದ್ದೇಶವು ಉಳಿದ ಆಮ್ಲ ದ್ರಾವಣವನ್ನು ತೆಗೆದುಹಾಕುವುದು, ಆದರೆ ನಿಷ್ಕ್ರಿಯತೆಯು ಆಮ್ಲವನ್ನು ತೊಳೆಯುವ ನಂತರ ಸಕ್ರಿಯ ಸ್ಥಿತಿಯಲ್ಲಿರುವ ಲೋಹದ ಮೇಲ್ಮೈಯನ್ನು ಮರು ಆಕ್ಸಿಡೀಕರಣಗೊಳಿಸುವುದರಿಂದ ಮತ್ತು ದ್ವಿತೀಯಕ ತೇಲುವ ತುಕ್ಕು ಉತ್ಪಾದಿಸುವುದನ್ನು ತಡೆಯುವುದು.

 

ಕೆಲಸದ ಪ್ರಾರಂಭದ ನಂತರ ಸ್ವಚ್ aning ಗೊಳಿಸುವುದು

1-2 ವರ್ಷಗಳು ಅಥವಾ ಹೆಚ್ಚಾಗಿ ಕಾರ್ಯನಿರ್ವಹಿಸುತ್ತಿರುವ ರಾಸಾಯನಿಕ ಉಪಕರಣಗಳು ಐರನ್ ಆಕ್ಸೈಡ್ ಸ್ಕೇಲ್ ಅಥವಾ ಸ್ಕೇಲ್ ಹೊಂದಿರುವ ಉಕ್ಕನ್ನು ಅನುಸರಿಸುತ್ತವೆ. ತಾಮ್ರದ ಪ್ರಮಾಣದಲ್ಲಿ ತಾಮ್ರದ ಆಕ್ಸೈಡ್ (CUO), ಮೂಲ ತಾಮ್ರದ ಕಾರ್ಬೊನೇಟ್ [Cu2 (OH) 2CO3], ಮತ್ತು ಲೋಹೀಯ ತಾಮ್ರವಿದೆ.

ಆಮ್ಲ ತೊಳೆಯುವ ಮೂಲಕ ರಸ್ಟ್ ಸ್ಕೇಲ್ ಅನ್ನು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ತೆಗೆದುಹಾಕಬಹುದು. ಆಮ್ಲ ತೊಳೆಯುವ ವಿಧಾನ ಮತ್ತು ಹಂತಗಳು ಮೂಲತಃ ಕೆಲಸವನ್ನು ಪ್ರಾರಂಭಿಸುವ ಮೊದಲು ಉಪಕರಣಗಳನ್ನು ಸ್ವಚ್ cleaning ಗೊಳಿಸುವ ವಿಧಾನದಂತೆಯೇ ಇರುತ್ತವೆ.

ಕೊಳಕಿನಲ್ಲಿರುವ ತಾಮ್ರದ ಅಂಶವು ಹೆಚ್ಚಾದಾಗ, ಆಮ್ಲವನ್ನು ತೊಳೆಯುವ ಮೂಲಕ ಅದನ್ನು ತೆಗೆದುಹಾಕಲಾಗುವುದಿಲ್ಲ. ಆಮ್ಲವನ್ನು ತೊಳೆಯುವ ಮೊದಲು ತಾಮ್ರದ ಘಟಕವನ್ನು ಅಮೋನಿಯಾ ನೀರಿನೊಂದಿಗೆ ತೆಗೆದುಹಾಕುವುದು ಅವಶ್ಯಕ.

ತಾಮ್ರ ಮತ್ತು ತಾಮ್ರದ ಆಕ್ಸೈಡ್ ಮಾಪಕಗಳು ಹೆಚ್ಚಾಗಿ ಕಬ್ಬಿಣದ ಆಕ್ಸೈಡ್‌ಗಳೊಂದಿಗೆ ಲೇಯರ್ಡ್ ಲಗತ್ತುಗಳನ್ನು ರೂಪಿಸುತ್ತವೆ, ಅವುಗಳನ್ನು ಸ್ವಚ್ clean ಗೊಳಿಸಲು ಕಷ್ಟವಾಗುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಲೇಯರ್ಡ್ ಲಗತ್ತುಗಳ ರಚನೆಯ ಮೊದಲು ಅದನ್ನು ಸ್ವಚ್ ed ಗೊಳಿಸಬೇಕು.

 

ಶಾಖ ವಿನಿಮಯಕಾರಕವನ್ನು ಹೇಗೆ ಸ್ವಚ್ clean ಗೊಳಿಸುವುದು?

ಶಾಖ ವಿನಿಮಯಕಾರಕಗಳ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆಯನ್ನು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಎರಡು ವರ್ಗಗಳಾಗಿ ವಿಂಗಡಿಸಲಾಗಿದೆ: ಯಾಂತ್ರಿಕ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆ ಮತ್ತು ರಾಸಾಯನಿಕ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆ.

 

ಯಾಂತ್ರಿಕ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆ

ಯಾಂತ್ರಿಕ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವ ವಿಧಾನವು ಕೊಳಕು ಅಂಟಿಕೊಳ್ಳುವಿಕೆಯ ಬಲಕ್ಕಿಂತ ಹೆಚ್ಚಿನ ಶಕ್ತಿಯನ್ನು ಒದಗಿಸಲು ದ್ರವ ಅಥವಾ ಯಾಂತ್ರಿಕ ಕ್ರಿಯೆಯ ಹರಿವನ್ನು ಅವಲಂಬಿಸಿದೆ, ಇದರಿಂದಾಗಿ ಕೊಳವು ಶಾಖ ವಿನಿಮಯ ಮೇಲ್ಮೈಯಿಂದ ಬೇರ್ಪಡಿಸುತ್ತದೆ.

ಯಾಂತ್ರಿಕ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವ ವಿಧಾನಗಳಲ್ಲಿ ಎರಡು ವಿಧಗಳಿವೆ: ಒಂದು ವಾಟರ್ ಸ್ಪ್ರೇ ಕ್ಲೀನಿಂಗ್, ಸ್ಟೀಮ್ ಸ್ಪ್ರೇ ಕ್ಲೀನಿಂಗ್, ಸ್ಯಾಂಡ್‌ಬ್ಲಾಸ್ಟಿಂಗ್ ಕ್ಲೀನಿಂಗ್, ಸ್ಕ್ರಾಪರ್ ಅಥವಾ ಡ್ರಿಲ್ ಬಿಟ್ ಡೆಸ್ಕಲಿಂಗ್, ಮುಂತಾದ ಬಲವಾದ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವ ವಿಧಾನ; ಮತ್ತೊಂದು ವಿಧವೆಂದರೆ ಸಾಫ್ಟ್ ಮೆಕ್ಯಾನಿಕಲ್ ಕ್ಲೀನಿಂಗ್, ಉದಾಹರಣೆಗೆ ವೈರ್ ಬ್ರಷ್ ಕ್ಲೀನಿಂಗ್ ಮತ್ತು ರಬ್ಬರ್ ಬಾಲ್ ಕ್ಲೀನಿಂಗ್. ಹಲವಾರು ರೀತಿಯ ವಿಧಾನಗಳನ್ನು ಕೆಳಗೆ ನೀಡಲಾಗಿದೆ:

ಸ್ಪ್ರೇ ಕ್ಲೀನಿಂಗ್ ಎನ್ನುವುದು ಅಧಿಕ-ಒತ್ತಡದ ನೀರಿನ ಸಿಂಪಡಿಸುವಿಕೆ ಅಥವಾ ಯಾಂತ್ರಿಕ ಪ್ರಭಾವವನ್ನು ಬಳಸುವ ಡೆಸ್ಕಲಿಂಗ್ ವಿಧಾನವಾಗಿದೆ. ಈ ವಿಧಾನವನ್ನು ಬಳಸುವಾಗ, ನೀರಿನ ಒತ್ತಡವು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ 20 ~ 50mpa ಆಗಿರುತ್ತದೆ. ಈಗ 50-70 ಎಂಪಿಎ ಹೆಚ್ಚಿನ ಒತ್ತಡಗಳನ್ನು ಸಹ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತಿದೆ.

ಸ್ಪ್ರೇ ಕ್ಲೈಯಿಂಗ್ ಅನ್ನು ಸಿಂಪಡಿಸುವಿಕೆಯ ಸ್ವಚ್ cleaning ಗೊಳಿಸುವಿಕೆಯು ವಿನ್ಯಾಸ ಮತ್ತು ಕಾರ್ಯಾಚರಣೆಯಲ್ಲಿ ಹೋಲುತ್ತದೆ, ಇದು ಪರಿಣಾಮ ಮತ್ತು ಶಾಖದ ಮೂಲಕ ಕೊಳೆಯನ್ನು ತೆಗೆದುಹಾಕಲು ಶಾಖ ವಿನಿಮಯಕಾರಕದ ಟ್ಯೂಬ್ ಮತ್ತು ಶೆಲ್ ಬದಿಗಳಲ್ಲಿ ಉಗಿಯನ್ನು ಸಿಂಪಡಿಸುವ ಸಾಧನವಾಗಿದೆ.

ಸ್ಯಾಂಡ್‌ಬ್ಲಾಸ್ಟಿಂಗ್ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆಯು ಸ್ಪ್ರೇ ಗನ್ ಮೂಲಕ ಸಂಕುಚಿತ ಗಾಳಿಯನ್ನು (300-350 ಕೆಪಿಎ) ಬಳಸುವ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಾಗಿದ್ದು, ಪ್ರದರ್ಶಿಸಿದ ಸ್ಫಟಿಕ ಶಿಲೆ ಮರಳಿನ ಮೇಲೆ ಬಲವಾದ ರೇಖೀಯ ವೇಗವನ್ನು ಉತ್ಪಾದಿಸುತ್ತದೆ (ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ 3-5 ಮಿಮೀ ಕಣದ ಗಾತ್ರದೊಂದಿಗೆ), ಇದು ಶಾಖ ವಿನಿಮಯಕಾರಕ ಟ್ಯೂಬ್‌ನ ಒಳ ಗೋಡೆಯನ್ನು ಹರಿಯುತ್ತದೆ, ಕೊಳೆಯನ್ನು ತೆಗೆದುಹಾಕುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಮೂಲ ಶಾಖ ವರ್ಗಾವಣೆ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಪುನಃಸ್ಥಾಪಿಸುತ್ತದೆ.

ಸ್ಕ್ರಾಪರ್ ಅಥವಾ ಡ್ರಿಲ್ ಬಿಟ್ ಡೆಸ್ಕಲಿಂಗ್, ಈ ಸ್ವಚ್ cleaning ಗೊಳಿಸುವ ಯಂತ್ರವು ಕೊಳವೆಗಳು ಅಥವಾ ಸಿಲಿಂಡರ್‌ಗಳ ಒಳಗೆ ಕೊಳೆಯನ್ನು ಸ್ವಚ್ cleaning ಗೊಳಿಸಲು ಮಾತ್ರ ಸೂಕ್ತವಾಗಿದೆ. ಹೊಂದಿಕೊಳ್ಳುವ ತಿರುಗುವ ಶಾಫ್ಟ್ನ ಮೇಲ್ಭಾಗದಲ್ಲಿ ಡೆಸ್ಕಲಿಂಗ್ ಸ್ಕ್ರಾಪರ್ ಅಥವಾ ಡ್ರಿಲ್ ಬಿಟ್ ಅನ್ನು ಸ್ಥಾಪಿಸಿ, ಮತ್ತು ಸಂಕುಚಿತ ಗಾಳಿ ಅಥವಾ ವಿದ್ಯುತ್ ಮೂಲಕ ಸ್ಕ್ರಾಪರ್ ಅಥವಾ ಡ್ರಿಲ್ ಬಿಟ್ ಅನ್ನು ತಿರುಗಿಸಿ (ನೀರು ಅಥವಾ ಉಗಿ ಬಳಸಿ).

ಶಾಟ್ ಬ್ಲಾಸ್ಟಿಂಗ್ ಕ್ಲೀನರ್ ಬಳಸಿ ರಬ್ಬರ್ ಬಾಲ್ ಕ್ಲೀನಿಂಗ್ ಅನ್ನು ನಡೆಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಶಾಟ್ ಬ್ಲಾಸ್ಟಿಂಗ್ ಕ್ಲೀನರ್ ಸ್ಪಂಜಿನ ಚೆಂಡು ಮತ್ತು ದ್ರವ ಸ್ಪ್ರೇ ಗನ್ನಿಂದ ಕೂಡಿದೆ, ಅದು ಚೆಂಡನ್ನು ಸ್ವಚ್ ed ಗೊಳಿಸಲು ಪೈಪ್ನ ಒಳಭಾಗಕ್ಕೆ ತಳ್ಳುತ್ತದೆ. ಚೆಂಡನ್ನು ಚಿಪ್ಪಿನಂತೆ ಆಕಾರ ಮಾಡಲಾಗಿದೆ ಮತ್ತು ಅರೆ ಹಾರ್ಡ್ ಫೋಮ್ ಪಾಲಿಯುರೆಥೇನ್ ಸ್ಪಂಜಿನಿಂದ ಹೊರತೆಗೆಯಲಾಗುತ್ತದೆ, ಇದು ಸ್ಥಿತಿಸ್ಥಾಪಕವಾಗಿದೆ.

 

ರಾಸಾಯನಿಕ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆ

ರಾಸಾಯನಿಕ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವ ವಿಧಾನವು ಕೊಳಕು ಮತ್ತು ಶಾಖ ವಿನಿಮಯ ಮೇಲ್ಮೈ ನಡುವಿನ ಅಂಟಿಕೊಳ್ಳುವಿಕೆಯನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡಲು ದ್ರವಕ್ಕೆ ಡೆಸ್ಕಲಿಂಗ್ ಏಜೆಂಟ್‌ಗಳು, ಆಮ್ಲಗಳು, ಕಿಣ್ವಗಳು ಇತ್ಯಾದಿಗಳನ್ನು ಸೇರಿಸುವುದನ್ನು ಒಳಗೊಂಡಿರುತ್ತದೆ, ಇದರಿಂದಾಗಿ ಅದು ಶಾಖ ವಿನಿಮಯ ಮೇಲ್ಮೈಯಿಂದ ಸಿಪ್ಪೆ ತೆಗೆಯುತ್ತದೆ.

ಪ್ರಸ್ತುತ ರಾಸಾಯನಿಕ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವ ವಿಧಾನಗಳು:

ಪರಿಚಲನೆ ವಿಧಾನ: ಸ್ವಚ್ cleaning ಗೊಳಿಸುವ ಪರಿಹಾರವನ್ನು ಸ್ವಚ್ cleaning ಗೊಳಿಸಲು ಒತ್ತಾಯಿಸಲು ಪಂಪ್ ಬಳಸಿ.

ಇಮ್ಮರ್ಶನ್ ವಿಧಾನ: ಸ್ವಚ್ cleaning ಗೊಳಿಸುವ ದ್ರಾವಣದಿಂದ ಉಪಕರಣಗಳನ್ನು ಭರ್ತಿ ಮಾಡಿ ಮತ್ತು ಒಂದು ನಿರ್ದಿಷ್ಟ ಅವಧಿಗೆ ನಿಲ್ಲಲು ಬಿಡಿ.

ಉಲ್ಬಣ ವಿಧಾನ: ಸ್ವಚ್ cleaning ಗೊಳಿಸುವ ದ್ರಾವಣದೊಂದಿಗೆ ಉಪಕರಣಗಳನ್ನು ಭರ್ತಿ ಮಾಡಿ, ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವ ದ್ರಾವಣದ ಒಂದು ಭಾಗವನ್ನು ಕೆಳಗಿನಿಂದ ನಿಯಮಿತ ಮಧ್ಯಂತರದಲ್ಲಿ ಹೊರಹಾಕಿ, ತದನಂತರ ಡಿಸ್ಚಾರ್ಜ್ ಮಾಡಿದ ದ್ರವವನ್ನು ಸ್ಫೂರ್ತಿದಾಯಕ ಮತ್ತು ಸ್ವಚ್ cleaning ಗೊಳಿಸುವ ಉದ್ದೇಶವನ್ನು ಸಾಧಿಸಲು ಸಾಧನಗಳಿಗೆ ಮರುಸ್ಥಾಪಿಸಿ.

 

ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಯ ಕೆಟಲ್ ಅನ್ನು ಹೇಗೆ ಸ್ವಚ್ clean ಗೊಳಿಸುವುದು?

ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಯ ಹಡಗುಗಳನ್ನು ಸ್ವಚ್ cleaning ಗೊಳಿಸಲು ಮೂರು ಮುಖ್ಯ ವಿಧಾನಗಳಿವೆ: ಯಾಂತ್ರಿಕ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆ, ರಾಸಾಯನಿಕ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆ ಮತ್ತು ಹಸ್ತಚಾಲಿತ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆ.

 

ಯಾಂತ್ರಿಕ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆ

ಯಾಂತ್ರಿಕ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆ: ಅಧಿಕ-ಒತ್ತಡದ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವ ಸಾಧನವನ್ನು ಬಳಸಿ, ಅಧಿಕ-ಒತ್ತಡದ ನೀರಿನ ಹರಿವನ್ನು ನಳಿಕೆಯ ಮೂಲಕ ಹರಿಯಲು ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ, ಕ್ರಿಯೆಯ ಹಡಗಿನ ಒಳಗಿನ ಗೋಡೆಯ ಮೇಲೆ ಮತ್ತು ಚಳವಳಿಗಾರನ ಮೇಲ್ಮೈಯಲ್ಲಿ ಹಾರ್ಡ್ ಸ್ಕೇಲ್ ಅನ್ನು ಒಡೆಯುತ್ತದೆ, ಸಂಪೂರ್ಣವಾಗಿ ಸಿಪ್ಪೆ ತೆಗೆಯುವುದು ಮತ್ತು ಅದನ್ನು ತೆಗೆದುಹಾಕುವುದು.

ಅಧಿಕ-ಒತ್ತಡದ ವಾಟರ್ ಜೆಟ್ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆಯ ತತ್ವವೆಂದರೆ ನೀರನ್ನು ಅಧಿಕ ಒತ್ತಡಕ್ಕೆ ಸಂಕುಚಿತಗೊಳಿಸುವುದು, ತದನಂತರ ಅದನ್ನು ಕೆಟಲ್‌ಗೆ ಸೇರಿಸಲಾದ ಸ್ವಚ್ cleaning ಗೊಳಿಸುವ ರೋಬೋಟ್‌ನಲ್ಲಿ ಸ್ಥಾಪಿಸಲಾದ ನಳಿಕೆಯ ಮೂಲಕ ಬಿಡುಗಡೆ ಮಾಡಿ. ಒತ್ತಡವನ್ನು ನೀರಿನ ಹರಿವಿನ ಚಲನ ಶಕ್ತಿಯಾಗಿ ಪರಿವರ್ತಿಸಬಹುದು, ಇದು ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆ ಮತ್ತು ತೆಗೆಯುವ ಪರಿಣಾಮಗಳನ್ನು ಸಾಧಿಸಲು ಗೋಡೆಯ ಕೊಳಕು ಮೇಲೆ ಪರಿಣಾಮ ಬೀರುತ್ತದೆ.
ರಾಸಾಯನಿಕ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆ

ಮೊದಲನೆಯದಾಗಿ, ರಿಯಾಕ್ಟರ್ ಸಲಕರಣೆಗಳೊಳಗಿನ ಪ್ರಮಾಣದ ಮಾದರಿಯ ಸಂಯೋಜನೆಯನ್ನು ತಿಳಿದುಕೊಳ್ಳುವುದು ಅವಶ್ಯಕ, ಮೇಲಾಗಿ ಮಾದರಿ ಮತ್ತು ವಿಶ್ಲೇಷಣೆಯ ಮೂಲಕ. ಕೊಳಕಿನ ಸಂಯೋಜನೆಯನ್ನು ನಿರ್ಧರಿಸಿದ ನಂತರ, ಮೊದಲು ಪ್ರಯೋಗಗಳನ್ನು ನಡೆಸುವುದು, ಸ್ವಚ್ cleaning ಗೊಳಿಸುವ ಏಜೆಂಟ್‌ಗಳನ್ನು ಆಯ್ಕೆ ಮಾಡಿ ಮತ್ತು ಪ್ರಯೋಗಗಳ ಮೂಲಕ ಅವು ಸಲಕರಣೆಗಳ ಲೋಹಕ್ಕೆ ತುಕ್ಕುಗೆ ಕಾರಣವಾಗುವುದಿಲ್ಲ ಎಂದು ದೃ irm ೀಕರಿಸುತ್ತವೆ. ನಂತರ, ಸಲಕರಣೆಗಳ ಒಳಗೆ ಸ್ವಚ್ cleaning ಗೊಳಿಸುವ ಪರಿಹಾರವನ್ನು ಪ್ರಸಾರ ಮಾಡಲು ಮತ್ತು ಕೊಳೆಯನ್ನು ತೊಳೆಯಲು ಸೈಟ್ನಲ್ಲಿ ತಾತ್ಕಾಲಿಕ ಪರಿಚಲನೆ ಸಾಧನವನ್ನು ಹೊಂದಿಸಲಾಗಿದೆ.

ಮೊದಲಿಗೆ, ಮಿಕ್ಸಿಂಗ್ ಬ್ಲೇಡ್ ಮತ್ತು ಕೆಟಲ್‌ನ ಒಳಗಿನ ಗೋಡೆಯನ್ನು ಸೂಕ್ತ ಪ್ರಮಾಣದ ನೀರಿನಿಂದ ತೊಳೆಯಿರಿ ಮತ್ತು ಅವುಗಳನ್ನು ಸಂಪೂರ್ಣವಾಗಿ ಹರಿಸುತ್ತವೆ.

ಒತ್ತಡಕ್ಕೊಳಗಾದ ಸಾಧನದ ಮೂಲಕ ದ್ರಾವಕದೊಂದಿಗೆ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆ ಹಡಗನ್ನು ಫ್ಲಶ್ ಮಾಡಿ.

ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವ ಪರಿಣಾಮವನ್ನು ಸಾಧಿಸದಿದ್ದರೆ, ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಯ ಕೆಟಲ್ಗೆ ಸೂಕ್ತವಾದ ದ್ರಾವಕವನ್ನು ಸೇರಿಸಿ, ಸ್ವಚ್ cleaning ಗೊಳಿಸುವ ಅವಶ್ಯಕತೆಗಳನ್ನು ಪೂರೈಸುವವರೆಗೆ ಬಿಸಿ ಮಾಡಿ, ಬೆರೆಸಿ ಮತ್ತು ರಿಫ್ಲಕ್ಸ್ ಮಾಡಿ, ತದನಂತರ ದ್ರಾವಕವನ್ನು ಬಿಡುಗಡೆ ಮಾಡಿ.

ಅಂತಿಮವಾಗಿ, ಕ್ರಿಯೆಯ ಹಡಗಿನ ಒಳಗಿನ ಗೋಡೆಯನ್ನು ಒಂದು ನಿರ್ದಿಷ್ಟ ಪ್ರಮಾಣದ ದ್ರಾವಕದೊಂದಿಗೆ ತೊಳೆಯಿರಿ ಮತ್ತು ಅದನ್ನು ಬಿಡುಗಡೆ ಮಾಡಿ.

ಕೆಟಲ್ ಮತ್ತು ಹಸ್ತಚಾಲಿತ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆಗೆ ಹಸ್ತಚಾಲಿತ ಪ್ರವೇಶ

ಕಡಿಮೆ ವೆಚ್ಚವು ಅದರ ದೊಡ್ಡ ಪ್ರಯೋಜನವಾಗಿದೆ, ಆದರೆ ರಿಯಾಕ್ಟರ್‌ಗೆ ಪ್ರವೇಶಿಸುವ ಮೊದಲು ಇದಕ್ಕೆ ಹಲವಾರು ಗಂಟೆಗಳ ವಾತಾಯನ ಮತ್ತು ವಾಯು ವಿನಿಮಯ ಅಗತ್ಯವಿರುತ್ತದೆ. ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಲ್ಲಿ, ರಿಯಾಕ್ಟರ್‌ನೊಳಗಿನ ಆಮ್ಲಜನಕದ ಸಾಂದ್ರತೆಯನ್ನು ಎಲ್ಲಾ ಸಮಯದಲ್ಲೂ ಮೇಲ್ವಿಚಾರಣೆ ಮಾಡಬೇಕು, ಇದು ಆಮ್ಲಜನಕದ ಕೊರತೆಯ ಅಪಾಯವನ್ನುಂಟುಮಾಡುತ್ತದೆ; ಅದೇ ಸಮಯದಲ್ಲಿ, ಹಸ್ತಚಾಲಿತ ಸ್ಕ್ರ್ಯಾಪಿಂಗ್ ಸಂಪೂರ್ಣವಾಗಿ ಸ್ವಚ್ clean ಗೊಳಿಸಲು ವಿಫಲವಾಗಿದೆ, ಆದರೆ ಕ್ರಿಯೆಯ ಹಡಗಿನ ಒಳ ಗೋಡೆಯ ಮೇಲೆ ಜಾರುವ ಗುರುತುಗಳನ್ನು ಉಂಟುಮಾಡುತ್ತದೆ, ಇದು ವಸ್ತುನಿಷ್ಠವಾಗಿ ಅವಶೇಷಗಳ ಮತ್ತಷ್ಟು ಅಂಟಿಕೊಳ್ಳುವಿಕೆಗೆ ಕಾರಣವಾಗುತ್ತದೆ. ಕೆಟಲ್ ಅನ್ನು ಸ್ವಚ್ cleaning ಗೊಳಿಸುವುದರಿಂದ ಉತ್ಪನ್ನದೊಂದಿಗೆ ನೈರ್ಮಲ್ಯ ಸಮಸ್ಯೆಗಳು ಉಂಟಾಗಬಹುದು. ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಹೇಳುವುದಾದರೆ, ಕೆಟಲ್ ಅನ್ನು ಸ್ವಚ್ clean ಗೊಳಿಸಲು ಒಂದು ದಿನದಿಂದ ಅರ್ಧ ದಿನ ತೆಗೆದುಕೊಳ್ಳುತ್ತದೆ.

ಮೂರು ವಿಧಾನಗಳಲ್ಲಿ ಪ್ರತಿಯೊಂದೂ ತನ್ನದೇ ಆದ ಅನುಕೂಲಗಳು ಮತ್ತು ಅನಾನುಕೂಲಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ:

ಯಾಂತ್ರಿಕ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆಯು ಉಪಕರಣಗಳನ್ನು ನಾಶಪಡಿಸುವುದಿಲ್ಲ ಮತ್ತು ಹಾರ್ಡ್ ಸ್ಕೇಲ್ ಅನ್ನು ಪರಿಣಾಮಕಾರಿಯಾಗಿ ಸ್ವಚ್ clean ಗೊಳಿಸಬಹುದು, ಆದರೆ ಇದು ಬಹಳ ಸಮಯ ತೆಗೆದುಕೊಳ್ಳುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಹೆಚ್ಚಿನ ಕಾರ್ಮಿಕ ತೀವ್ರತೆಯ ಅಗತ್ಯವಿರುತ್ತದೆ;

ರಾಸಾಯನಿಕ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆಗೆ ಕಡಿಮೆ ಶ್ರಮ ಬೇಕಾಗುತ್ತದೆ, ಕಡಿಮೆ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವ ಸಮಯವನ್ನು ಹೊಂದಿರುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಸಂಪೂರ್ಣವಾಗಿ ಸ್ವಚ್ ans ಗೊಳಿಸುತ್ತದೆ, ಆದರೆ ಇದು ಉಪಕರಣಗಳನ್ನು ನಾಶಮಾಡಲು ಕಾರಣವಾಗಬಹುದು;

ಸ್ವಚ್ cleaning ಗೊಳಿಸುವಿಕೆಗಾಗಿ ಕೆಟಲ್ ಅನ್ನು ಹಸ್ತಚಾಲಿತವಾಗಿ ಪ್ರವೇಶಿಸುವುದು ಕಡಿಮೆ-ವೆಚ್ಚವಾಗಿದೆ, ಆದರೆ ಇದು ಉನ್ನತ ಮಟ್ಟದ ಅಪಾಯವನ್ನು ಹೊಂದಿರುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಅದನ್ನು ಸಂಪೂರ್ಣವಾಗಿ ಸ್ವಚ್ ed ಗೊಳಿಸಲಾಗುವುದಿಲ್ಲ.

ಆದ್ದರಿಂದ, ಕೊಳಕು ಮೃದು ಮತ್ತು ತೆಳ್ಳಗಿರುವ ಕೆಲಸದ ಪರಿಸ್ಥಿತಿಗಳಲ್ಲಿ ರಾಸಾಯನಿಕ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆಯನ್ನು ಅನ್ವಯಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ, ಆದರೆ ಯಾಂತ್ರಿಕ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆಯನ್ನು ಕೆಲಸದ ಪರಿಸ್ಥಿತಿಗಳಲ್ಲಿ ಅನ್ವಯಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ, ಅಲ್ಲಿ ಕೊಳಕು ಗಟ್ಟಿಯಾಗಿ ಮತ್ತು ದಪ್ಪವಾಗಿರುತ್ತದೆ.